特許
J-GLOBAL ID:202003007556730766

N,N-ジメチルアミドの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 及川 周 ,  荒 則彦 ,  勝俣 智夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-244995
公開番号(公開出願番号):特開2020-105105
出願日: 2018年12月27日
公開日(公表日): 2020年07月09日
要約:
【課題】ニトリルとメタノールとを気相反応させてN,N-ジメチルアミドを製造できる製造方法を提供する。【解決手段】ニトリルとメタノールとを触媒の存在下で気相反応させてN,N-ジメチルアミドを製造するN,N-ジメチルアミドの製造方法であり、前記ニトリルが、アセトニトリルまたはプロピオニトリルであり、前記触媒が、銅とアルミニウムとを含む合金であるN,N-ジメチルアミドの製造方法とする。ニトリルとして、アセトニトリルを用いることが好ましい。【選択図】なし
請求項(抜粋):
ニトリルとメタノールとを触媒の存在下で気相反応させてN,N-ジメチルアミドを製造するN,N-ジメチルアミドの製造方法であり、 前記ニトリルが、アセトニトリルまたはプロピオニトリルであり、 前記触媒が、銅とアルミニウムとを含む合金であるN,N-ジメチルアミドの製造方法。
IPC (2件):
C07C 231/06 ,  C07C 233/05
FI (2件):
C07C231/06 ,  C07C233/05
Fターム (10件):
4H006AA02 ,  4H006AC53 ,  4H006BA05 ,  4H006BA09 ,  4H006BC13 ,  4H006BV22 ,  4H006BV23 ,  4H039CA71 ,  4H039CF40 ,  4H039CG10
引用特許:
出願人引用 (7件)
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