特許
J-GLOBAL ID:202003007569069201
液処理装置における処理液の吐出量の測定方法、測定方法に用いる容器及び測定方法に用いる冶具
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
特許業務法人弥生特許事務所
, 井上 俊夫
, 三井田 友昭
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-243465
公開番号(公開出願番号):特開2018-098414
特許番号:特許第6763290号
出願日: 2016年12月15日
公開日(公表日): 2018年06月21日
請求項(抜粋):
【請求項1】 基板載置部に載置された基板の表面に処理液吐出部から処理液を吐出して液処理を行う液処理装置についての前記処理液の吐出量の測定方法において、
前記基板を前記基板載置部に搬送する基板搬送機構により、前記処理液を収納する容器本体を当該基板載置部に搬送する工程と、
次いで、前記処理液吐出部から前記処理液を前記容器本体に吐出する工程と、
続いて、前記容器本体に収容された前記処理液を覆う蓋を、蓋搬送機構により当該容器本体に搬送して容器を形成する工程と、
然る後、前記基板搬送機構により前記容器を、当該容器内に収納された前記処理液の量を測定するための測定器へ搬送する工程と、
を備えることを特徴とする処理液の吐出量の測定方法。
IPC (1件):
FI (2件):
H01L 21/30 564 C
, H01L 21/30 569 C
引用特許:
審査官引用 (5件)
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重量測定装置、及び液滴吐出装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2007-066330
出願人:セイコーエプソン株式会社
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基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2013-211079
出願人:東京エレクトロン株式会社
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液体調整装置及び液体分注システム
公報種別:公開公報
出願番号:特願2014-070869
出願人:株式会社日立製作所
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塗布処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-389031
出願人:東京エレクトロン株式会社
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特許第5954239号
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