特許

J-GLOBAL ID：202003007638505892

基板処理システム、基板洗浄方法および記憶媒体

発明者： 菅野 至 ,  関口 賢治 ,  相原 明徳 ,  緒方 信博
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人酒井国際特許事務所
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2018023178
公開番号（公開出願番号）：WO2019-009054
出願日： 2018年06月19日
公開日（公表日）： 2019年01月10日
要約：

実施形態に係る基板処理システムは、保持部と、剥離処理液供給部と、溶解処理液供給部とを備える。保持部は、有機溶媒に可溶なフェノール樹脂を含有する処理膜が形成された基板を保持する。剥離処理液供給部は、処理膜を基板から剥離させる剥離処理液を処理膜に対して供給する。溶解処理液供給部は、処理膜を溶解させる溶解処理液を処理膜に対して供給する。

請求項（抜粋）：

有機溶媒に可溶なフェノール樹脂を含有する処理膜が形成された基板を保持する保持部と、 前記処理膜を前記基板から剥離させる剥離処理液を前記処理膜に対して供給する剥離処理液供給部と、 前記処理膜を溶解させる溶解処理液を前記処理膜に対して供給する溶解処理液供給部と を備える、基板処理システム。

IPC (1件)：

H01L 21/304

FI (4件)：

H01L21/304 643A ,  H01L21/304 647Z ,  H01L21/304 648K ,  H01L21/304 647A

Fターム (32件)：

5F157AA73 ,  5F157AB02 ,  5F157AB14 ,  5F157AB33 ,  5F157AB44 ,  5F157AB51 ,  5F157AB90 ,  5F157AC01 ,  5F157AC25 ,  5F157BB23 ,  5F157BB45 ,  5F157BE12 ,  5F157BE33 ,  5F157BF02 ,  5F157BF12 ,  5F157BF22 ,  5F157BF24 ,  5F157BF32 ,  5F157BF33 ,  5F157BF34 ,  5F157BF39 ,  5F157BF52 ,  5F157BF60 ,  5F157CC11 ,  5F157CE33 ,  5F157CF14 ,  5F157CF44 ,  5F157CF60 ,  5F157CF99 ,  5F157DB02 ,  5F157DB03 ,  5F157DC90