特許

J-GLOBAL ID：202003007669995316

成膜装置及びスパッタリングターゲット機構

発明者： 須田 具和 ,  高橋 明久
出願人/特許権者： 株式会社アルバック
代理人 (4件)： 大森 純一 ,  高橋 満 ,  中村 哲平 ,  日比野 幸信
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-116847
公開番号（公開出願番号）：特開2019-218604
出願日： 2018年06月20日
公開日（公表日）： 2019年12月26日
要約：

【課題】使用効率を向上させたスパッタリングターゲット機構の提供。【解決手段】成膜装置では、基板搬送機構が真空容器内で基板を搬送することできる。ロータリターゲットは、基板に対向し、基板搬送方向に対して交差する回転軸を有し、回転軸に沿って延びる第1ロータリターゲット部と、第1ロータリターゲット部の両端に接続され、回転軸を中心に第1ロータリターゲット部とともに回転する一対の第2ロータリターゲット部とを有する。一対の第2ロータリターゲット部のスパッタリング収率は、第1ロータリターゲット部のスパッタリング収率よりも低い。磁気回路部は、ロータリターゲットの内側に配置された、第1磁気ユニット及び第2磁気ユニットを有する。第1磁気ユニットは、回転軸に沿って延在しロータリターゲットの背面に向かって第1極が臨む。第2磁気ユニットは、第1磁気ユニットを囲み背面に向かって第1極とは反対の第2極が臨む。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

減圧状態を維持することが可能な真空容器と、 前記真空容器内で基板を搬送することが可能な基板搬送機構と、 前記基板に対向し、前記基板が搬送される方向に対して交差する回転軸を有し、前記回転軸に沿って延びる第1ロータリターゲット部と、前記第1ロータリターゲット部の両端に接続され、前記回転軸を中心に前記第1ロータリターゲット部とともに回転する一対の第2ロータリターゲット部とを有し、前記一対の第2ロータリターゲット部のスパッタリング収率が前記第1ロータリターゲット部のスパッタリング収率よりも低いロータリターゲットと、 前記ロータリターゲットの内側に配置された、第1磁気ユニット及び第2磁気ユニットを有し、前記第1磁気ユニットは、前記回転軸に沿って延在し前記ロータリターゲットの背面に向かって第1極が臨み、前記第2磁気ユニットは、前記第1磁気ユニットを囲み前記背面に向かって前記第1極とは反対の第2極が臨む磁気回路部と を具備する成膜装置。

IPC (1件)：

C23C 14/34

FI (1件)：

C23C14/34 B

Fターム (12件)：

4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA45 ,  4K029BC09 ,  4K029BD02 ,  4K029CA06 ,  4K029DC05 ,  4K029DC13 ,  4K029DC34 ,  4K029DC40 ,  4K029DC45 ,  4K029KA01

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特許第3516949号
  
• 自浄式ターゲットを有する円筒状マグネトロン
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2007-525715   出願人：フォンアルデンヌアンラジェンテクニックゲーエムベーハー
• 特許第3516949号