特許

J-GLOBAL ID：202003008001412994

基板処理装置

発明者： 菊本 憲幸 ,  基村 雅洋 ,  安田 周一 ,  藤田 和宏
出願人/特許権者： 株式会社SCREENホールディングス
代理人 (3件)： 松阪 正弘 ,  田中 勉 ,  井田 正道
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-054965
公開番号（公開出願番号）：特開2017-168774
特許番号：特許第6688112号
出願日： 2016年03月18日
公開日（公表日）： 2017年09月21日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 基板を処理する基板処理装置であって、 基板よりも外径が大きい円板状であり、前記基板の下方に配置されて水平状態で前記基板を保持する基板保持部と、 上下方向を向く中心軸を中心として前記基板保持部を回転する基板回転機構と、 前記基板の上面に対向する対向部材と、 前記基板の前記上面に処理液を供給する処理液供給部と、 前記対向部材の下面と前記基板の前記上面との間の空間である処理空間に処理雰囲気用ガスを供給するガス供給部と、 前記基板保持部の周囲に配置されて前記基板からの前記処理液を受けるカップ部と、 前記カップ部内のガスを吸引して前記カップ部外へと排出するガス排出部と、 を備え、 前記処理液供給部が、 前記基板に第1処理液を供給する第1処理液供給部と、 前記基板に第2処理液を供給する第2処理液供給部と、 を備え、 前記対向部材が、 前記基板の前記上面に対向する対向部材天蓋部と、 前記対向部材天蓋部の外周部から下方に広がる対向部材側壁部と、 を備え、 前記対向部材側壁部の内周面は、前記基板保持部の外周面よりも径方向外方に配置され、かつ、前記基板保持部の前記外周面と径方向に対向し、 前記対向部材側壁部の外周面は、円筒状であり、 前記カップ部が、 円筒状の第1カップ側壁部と、前記第1カップ側壁部の上端部から径方向内方に広がる円環板状の第1カップ庇部とを有し、前記基板からの前記第1処理液を受ける第1カップと、 円筒状の第2カップ側壁部と、前記第2カップ側壁部の上端部から径方向内方に広がり、内周縁が前記対向部材側壁部の前記外周面と径方向に対向する円環板状の第2カップ庇部とを有し、前記第1カップの径方向外側に配置されて前記基板からの前記第2処理液を受ける第2カップと、 前記第1カップを前記基板保持部に対して上下方向に相対移動するカップ移動機構と、 を備え、 前記第1カップ庇部の内周縁が前記対向部材側壁部の前記外周面と径方向に対向する第1処理位置に前記第1カップが配置された状態で、回転中の前記基板の前記上面上に供給された前記第1処理液が前記第1カップにより受けられ、 前記第1カップ庇部の前記内周縁が前記対向部材側壁部の下端よりも下方に位置する第2処理位置に前記第1カップが配置された状態で、回転中の前記基板の前記上面上に供給された前記第2処理液が前記第2カップにより受けられ、 前記対向部材側壁部の前記外周面と前記第2カップ庇部の前記内周縁との間の径方向の距離である第2カップギャップ距離が、前記対向部材側壁部の前記内周面と前記基板保持部の前記外周面との間の径方向の距離である保持部ギャップ距離よりも大きいことを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 ( 200 6.01) ,  H01L 21/306 ( 200 6.01)

FI (4件)：

H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 648 L ,  H01L 21/304 651 B ,  H01L 21/306 R

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 液処理装置、液処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-116216   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2014-246815   出願人：株式会社SCREENホールディングス

審査官引用 (2件)

• 液処理装置、液処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-116216   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2014-246815   出願人：株式会社SCREENホールディングス