特許
J-GLOBAL ID:202003008281485835
飛行の巡航フェーズにおける垂直プロファイルを最適化するための電子装置および方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
園田・小林特許業務法人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2019-181901
公開番号(公開出願番号):特開2020-079076
出願日: 2019年10月02日
公開日(公表日): 2020年05月28日
要約:
【課題】飛行の巡航フェーズ中に航空機が飛行すべき垂直プロファイルを最適化するための電子装置および方法を提供する。【解決手段】飛行の巡航フェーズ中に航空機が飛行すべき垂直プロファイルを最適化するための電子装置であって、航空機の潜在的な巡航飛行経路に沿った全ての潜在的に適切なステップ位置を決定すること、潜在的な巡航飛行経路に沿った全てのレベル区間とステップ区間のコストに基づく重み付きグラフを表すデジタルデータを生成すること、グラフ理論を重み付きグラフに適用することにより、巡航最適化問題を解くこと、巡航最適化問題を解いた結果として得られた最適化された垂直プロファイルのステップ位置と高度を出力すること、最適化された垂直プロファイルのステップ位置と高度に基づくルートに沿って、航空機が飛行すべき予測軌道を生成する。【選択図】図7
請求項(抜粋):
飛行の巡航フェーズ中に航空機(42)が飛行する垂直プロファイルを最適化する方法(100)であって、
(a)前記航空機の潜在的な巡航飛行経路に沿った全ての潜在的に適切なステップ位置を決定することと、
(b)前記潜在的な巡航飛行経路に沿った全てのレベル区間とステップ区間のコストに基づいて重み付けられた重み付きグラフを表すデジタルデータを生成することと、
(c)グラフ理論を前記重み付きグラフに適用することにより、巡航最適化問題を解くことと、
(d)前記巡航最適化問題を解いた結果として得られた最適化された垂直プロファイルのステップ位置と高度を出力することと、
(e)前記最適化された垂直プロファイルの前記ステップ位置と高度に基づくルートに沿って予測軌道を生成することと、
(f)前記ルートの一部に対応する前記最適化された垂直プロファイルの少なくとも一部を、コックピットグラフィカルディスプレイシステム(15)に表示することと、
を含む方法(100)。
IPC (3件):
B64D 45/00
, B64C 13/18
, G08G 5/00
FI (3件):
B64D45/00 A
, B64C13/18 G
, G08G5/00 A
Fターム (4件):
5H181AA26
, 5H181FF14
, 5H181FF22
, 5H181FF33
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