特許
J-GLOBAL ID:202003008755447255
積層体
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-194953
公開番号(公開出願番号):特開2020-062774
出願日: 2018年10月16日
公開日(公表日): 2020年04月23日
要約:
【課題】高い意匠性を有すると共に、個人認証媒体に設けられた顔画像情報などの改ざんを困難なものとする偽造防止機能の高い積層体を提供することを目的とする。【解決手段】ICチップと、金属薄膜をパターン状に形成してなるアンテナ部を有するインレイと、少なくとも一部に透明な窓部を有するコア層と、レーザ発色層と、OVD層と、を少なくとも積層してなる積層体であって、前記インレイには、前記コア層の前記透明な窓部が設けられた領域と少なくとも一部が重なる領域において、前記金属薄膜からなる絵柄模様部が設けられてなり、前記OVD層は、前記窓部が設けられた領域の少なくとも一部を覆う領域に設けられており、かつ表面に凹凸構造を有するレリーフ構造形成層と、金属反射層を有し、前記レリーフ構造形成層表面に設けられた凹凸構造において、前記凹凸構造の凸部あるいは凹部の断面形状が、左右非対称となる溝構造を含む積層体。【選択図】図1
請求項(抜粋):
インレイと、コア層と、レーザ発色層と、OVD(Optical Variable
Device)層と、を少なくともこの順に積層してなる積層体であって、
前記インレイは、金属薄膜をパターン状に形成してなるアンテナ部を有し、
前記コア層は、少なくとも一部に透明な窓部を有し、
前記レーザ発色層は、レーザ印字可能であり、
前記OVD層は、前記コア層の前記透明な窓部が設けられた領域の少なくとも一部を覆う領域に設けられており、かつ表面に凹凸構造を有するレリーフ構造形成層と、前記レリーフ構造形成層表面の少なくとも一部を覆う金属反射層を有し、かつ前記レリーフ構造形成層表面に設けられた凹凸構造において、前記凹凸構造の凸部あるいは凹部の断面形状が、左右非対称となる溝構造を含み、
前記インレイには、前記コア層の前記透明な窓部が設けられた領域と少なくとも一部が重なる領域において、前記金属薄膜からなる絵柄模様部が設けられていることを特徴とする積層体。
IPC (5件):
B42D 25/305
, B32B 15/04
, G06K 19/02
, G06K 19/077
, B42D 25/24
FI (5件):
B42D25/305 100
, B32B15/04 Z
, G06K19/02
, G06K19/077 144
, B42D25/24
Fターム (27件):
2C005HA02
, 2C005HA06
, 2C005HB02
, 2C005KA02
, 2C005MA02
, 2C005MA12
, 2C005NA09
, 2C005NB01
, 4F100AB01A
, 4F100AB01E
, 4F100AT00B
, 4F100AT00C
, 4F100BA05
, 4F100BA07
, 4F100BA10A
, 4F100BA10D
, 4F100BA10E
, 4F100DC30A
, 4F100DD01D
, 4F100DD05D
, 4F100GB90
, 4F100HB00A
, 4F100HB24D
, 4F100JG10A
, 4F100JN01B
, 4F100JN06E
, 4F100JN28C
引用特許:
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