特許
J-GLOBAL ID:202003008766205660
テトラヒドロほう酸塩の製造方法、テトラヒドロほう酸塩の製造装置及びテトラヒドロほう酸塩
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
長谷川 芳樹
, 黒木 義樹
, 大森 鉄平
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-158478
公開番号(公開出願番号):特開2020-033201
出願日: 2018年08月27日
公開日(公表日): 2020年03月05日
要約:
【課題】テトラヒドロほう酸塩の新規な製造方法を提供する。【解決手段】テトラヒドロほう酸塩の製造方法は、ほう酸塩を粉砕しつつ水素プラズマにさらす水素化処理工程(ステップS14)を備える。【選択図】図1
請求項(抜粋):
ほう酸塩を粉砕しつつ水素プラズマにさらす水素化処理工程を備える、テトラヒドロほう酸塩の製造方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (19件):
2G084AA26
, 2G084BB02
, 2G084BB12
, 2G084BB37
, 2G084CC03
, 2G084CC06
, 2G084CC08
, 2G084CC14
, 2G084CC19
, 2G084CC23
, 2G084CC33
, 2G084CC34
, 2G084DD17
, 2G084DD22
, 2G084DD67
, 2G084FF02
, 2G084FF38
, 2G084GG02
, 2G084GG18
引用特許:
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