特許
J-GLOBAL ID:202003009065881528

修飾グラフェン、修飾グラフェンの製造方法、修飾グラフェン樹脂複合体、修飾グラフェンシートおよび修飾グラフェン分散体

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 桂田 健志
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2020-011259
公開番号(公開出願番号):特開2020-138898
出願日: 2020年01月27日
公開日(公表日): 2020年09月03日
要約:
【課題】欠陥濃度が低い、修飾グラフェン、樹脂複合体、及び分散体を提供する。【解決手段】下記式(I)で示される構造を有し、ラマン分光スペクトルにおけるGバンドの強度gとDバンドの強度dの比率(g/d)が、1以上である修飾グラフェン:Gr1=N-Ar1-X1-(Y1)n1(I)(式(I)中、Gr1は単層グラフェンまたは多層グラフェンであり、Ar1は炭素数6〜18のアリーレン基であり、X1は、単結合、炭素数1〜20の直鎖状、分岐鎖状もしくは環状のアルキレン基等であり、Y1は、X1が単結合である場合はアリーレン基中の少なくとも1つの炭素原子に結合する原子もしくは基、又はX1が単結合でない場合はX1中の炭素原子に結合する原子または基等であり、n1は1以上の整数を表し、n1が2以上の場合Y1は互いに同じ基であっても、異なる基であっても良い。)【選択図】なし
請求項(抜粋):
修飾グラフェンであって、 下記式(I)で示される構造を有し、 ラマン分光スペクトルにおけるGバンドの強度gとDバンドの強度dの比率(g/d)が、1以上であることを特徴とする修飾グラフェン: Gr1=N-Ar1-X1-(Y1)n1 (I) (前記式(I)中、 Gr1は単層グラフェンまたは多層グラフェンであり、 Ar1は炭素数6〜18のアリーレン基であり、 X1は、 単結合、 炭素数1〜20の直鎖状、分岐鎖状もしくは環状のアルキレン基、または、 炭素数1〜10の直鎖状、分岐鎖状もしくは環状のアルキレン基中の少なくとも1つの炭素原子を、-O-、-NH-、
IPC (4件):
C01B 32/194 ,  C08L 101/00 ,  C08K 9/04 ,  C08K 3/04
FI (4件):
C01B32/194 ,  C08L101/00 ,  C08K9/04 ,  C08K3/04
Fターム (26件):
4G146AA01 ,  4G146AB07 ,  4G146AC16B ,  4G146AC19B ,  4G146AC26B ,  4G146CB19 ,  4G146CB22 ,  4G146CB35 ,  4J002AA001 ,  4J002AB021 ,  4J002AC011 ,  4J002BB031 ,  4J002BC031 ,  4J002BD031 ,  4J002BF021 ,  4J002BG021 ,  4J002BG101 ,  4J002CC031 ,  4J002CD001 ,  4J002CL001 ,  4J002CP031 ,  4J002DA016 ,  4J002FB086 ,  4J002FD016 ,  4J002GM00 ,  4J002GQ00
引用特許:
審査官引用 (4件)
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