特許

J-GLOBAL ID：202003009163470684

単分子層又は多分子層形成用組成物、単分子層又は多分子層及び積層体並びに有機ケイ素化合物

発明者： 岸岡 高広
出願人/特許権者： 日産化学株式会社
代理人 (2件)： 栗原 浩之 ,  山▲崎▼ 雄一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-221626
公開番号（公開出願番号）：特開2020-086176
出願日： 2018年11月27日
公開日（公表日）： 2020年06月04日
要約：

【課題】基板表面の密着性、撥液性などの特性を変更することができる、単分子層又は多分子層を形成するための新規な単分子層又は多分子層形成用組成物、及びそれを用いた単分子層又は多分子層及び積層体、並びに有機ケイ素化合物を提供する。【解決手段】下記一般式(1)で表される有機ケイ素化合物と、有機溶剤とを含む、単分子層又は多分子層形成用組成物。(式(1)中、A1、A2は、各々独立に水素原子、炭素原子数1〜6のアルキル基又は炭素原子数6〜40のフェニル基であり、R1は単結合又は硫黄原子で連結されていてもよい炭素原子数1〜6のアルキレン基であり、R2〜R4は各々独立にハロゲン原子、炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数6〜40のフェニル基又は炭素原子数1〜6のアルコキシ基である。)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表される有機ケイ素化合物と、有機溶剤とを含む、単分子層又は多分子層形成用組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/11 ,  C07F 7/18 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/40

FI (4件)：

G03F7/11 503 ,  C07F7/18 V ,  G03F7/004 531 ,  G03F7/40 521

Fターム (17件)：

2H196AA25 ,  2H196HA17 ,  2H196JA04 ,  2H196LA01 ,  2H225AN02N ,  2H225AN39N ,  2H225AN78N ,  4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VQ21 ,  4H049VR21 ,  4H049VR43 ,  4H049VS21 ,  4H049VT17 ,  4H049VT30 ,  4H049VU25 ,  4H049VV02

引用文献：

出願人引用 (1件)

• SiSiB SILANES, 200803

審査官引用 (1件)

• SiSiB SILANES, 200803