特許

J-GLOBAL ID：202003009233003477

有機膜の製造方法、有機膜および液晶組成物

発明者： 後藤 亮司 ,  福島 孝典 ,  梶谷 孝
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (2件)： 伊東 秀明 ,  三橋 史生
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2018015179
公開番号（公開出願番号）：WO2018-190361
出願日： 2018年04月11日
公開日（公表日）： 2018年10月18日
要約：

本発明の課題は、毎分2°C以上の早い速度で降温した場合に、フォーカルコニック欠陥の発生が抑制され、かつ、大きなドメインを均一に有する有機膜の製造方法を提供することである。また、本発明の課題は、有機膜および液晶組成物を提供することにもある。本発明の有機膜の製造方法は、トリフェニレン誘導体およびフッ素系配向剤を含む液晶組成物の塗膜を形成する工程と、上記トリフェニレン誘導体が等方相に転移する温度まで上記塗膜を加熱する工程と、上記トリフェニレン誘導体がカラムナー液晶相に転移するまで、上記加熱後の上記塗膜を降温させて、有機膜を形成する工程と、を有し、上記有機膜内において、上記トリフェニレン誘導体由来のトリフェニレン環が上記有機膜の面内方向に配向し、かつ、上記有機膜が、薄膜X線回折測定において上記トリフェニレン環が積み重なったカラムの上記有機膜の面内方向における周期構造由来のピークを示す。

請求項（抜粋）：

トリフェニレン誘導体およびフッ素系配向剤を含む液晶組成物の塗膜を形成する工程と、 前記トリフェニレン誘導体が等方相に転移する温度まで前記塗膜を加熱する工程と、 前記トリフェニレン誘導体がカラムナー液晶相に転移するまで、前記加熱後の前記塗膜を降温させて、有機膜を形成する工程と、を有し、 前記有機膜内において、前記トリフェニレン誘導体由来のトリフェニレン環が前記有機膜の面内方向に配向し、かつ、前記有機膜が、薄膜X線回折測定において、前記トリフェニレン環が積み重なったカラムの前記有機膜の面内方向における周期構造由来のピークを示す、有機膜の製造方法。

IPC (3件)：

G02B 5/30 ,  C09K 19/56 ,  C09K 19/32

FI (3件)：

G02B5/30 ,  C09K19/56 ,  C09K19/32

Fターム (14件)：

2H149AA01 ,  2H149AB02 ,  2H149DA02 ,  2H149DA12 ,  2H149DB09 ,  2H149DB15 ,  2H149FA24Y ,  2H149FA51Y ,  2H149FA58Y ,  4H027BA16 ,  4H027BD12 ,  4H027BE02 ,  4H027BE04 ,  4H027DM03