特許
J-GLOBAL ID：202003009859995030
合焦装置、合焦方法、及びパターン検査方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
池上 徹真
, 須藤 章
, 松山 允之
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-131993
公開番号（公開出願番号）：特開2018-004957
特許番号：特許第6745152号
出願日： 2016年07月01日
公開日（公表日）： 2018年01月11日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 パターンが形成された基板に反射照明光を照明する反射照明光学系と、
前記基板のパターン像を結像させる結像光学系と、
前記基板のパターン像を受光するタイム・ディレイ・インテグレーションセンサ(TDIセンサ)と、
前記反射照明光学系の光路中における前記基板面に対する前記TDIセンサの共役位置に対して光軸方向手前側に配置され、前記反射照明光の照射を受ける、前記TDIセンサの時間積分方向に平行な端部を有する遮光パターンと前記遮光パターンよりも照明領域中の割合が大きい透過パターンとが形成された第1のレチクルと、
前記反射照明光学系の光路中における前記基板面に対する前記TDIセンサの共役位置に対して光軸方向後側であって、前記第1のレチクルと光軸方向に等配の位置に前記第1のレチクルとはパターンが互いに逆向きになるように配置され、前記第1のレチクルと同様の遮光パターンと透過パターンとが形成された第2のレチクルと、
前記第1と第2のレチクルを通過せずに前記反射照明光が前記基板に照明されることによって生成された前記基板のパターン像を受光した前記TDIセンサにより出力される階調値を用いて、前記階調値の均一化を行う均一化処理部と、
前記均一化が行われた状態で、前記第1と第2のレチクルを通過した前記反射照明光が前記基板に照明されることによって生成された前記基板のパターン像を受光した前記TDIセンサにより出力された階調値の一次微分値を用いて、前記基板のパターン像の焦点が合う前記基板と前記TDIセンサ共役位置との相対距離の移動量を演算する移動量演算部と、
前記移動量を用いて、前記基板と前記TDIセンサの共役位置との相対距離を移動させる駆動部と、
を備えたことを特徴とする合焦装置。
IPC (5件)：
G02B 7/28 ( 200 6.01)
, G01N 21/956 ( 200 6.01)
, G03B 13/36 ( 200 6.01)
, G03F 1/84 ( 201 2.01)
, H04N 5/232 ( 200 6.01)
G02B 7/28 M
, G01N 21/956 A
, G03B 13/36
, G03F 1/84
, H04N 5/232 120
