特許

J-GLOBAL ID：202003010071063738

真空弁及びそれを用いた真空圧力制御システム

発明者： 伊藤 稔 ,  渡辺 雅之 ,  橋口 誠二
出願人/特許権者： CKD株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人コスモス国際特許商標事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-110969
公開番号（公開出願番号）：特開2017-215025
特許番号：特許第6630236号
出願日： 2016年06月02日
公開日（公表日）： 2017年12月07日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 弁座を備えるボディと、前記弁座に当接又は離間する弁体と、前記ボディに連結され、操作流体が給排気されるシリンダと、前記シリンダに収容され、凹溝が前記シリンダの内周面側に開口するように環状に設けられたピストンと、環状に形成されて前記凹溝に装着されるパッキンと、前記ピストンと前記弁体とを連結するロッドとを備えており、真空容器と真空ポンプとの間に配置され、前記シリンダが前記操作流体を給排気されることにより前記ピストンに作用する操作圧力を制御され、前記弁体と前記弁座との間の距離である弁開度を調整する真空弁において、 前記パッキンは、 径方向内側に設けられた接触部と、 前記接触部の径方向外側に設けられた摺接部とを有し、 前記接触部と前記摺接部との間の肉厚が薄いこと、 前記ピストンが前記弁体の全閉から全開の位置に関わらず事前の移動方向に対して反対方向へ移動し始める場合に、前記摺接部が前記接触部に対して撓み変形すること、 前記接触部は、前記凹溝の底面と接する内周部の両側に切欠溝が形成されていること を特徴とする真空弁。

IPC (5件)：

F16K 31/163 ( 200 6.01) ,  G05D 16/10 ( 200 6.01) ,  F15B 15/14 ( 200 6.01) ,  F16K 51/02 ( 200 6.01) ,  F15B 11/06 ( 200 6.01)

FI (5件)：

F16K 31/163 ,  G05D 16/10 E ,  F15B 15/14 345 A ,  F16K 51/02 A ,  F15B 11/06 B

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭62-171506
  
• 真空調圧用バルブ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-310606   出願人：SMC株式会社