特許
J-GLOBAL ID:202003010490455158

回路形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 特許業務法人ネクスト ,  片岡 友希
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-524610
特許番号:特許第6680878号
出願日: 2016年06月28日
請求項(抜粋):
【請求項1】 金属微粒子を含有する金属含有液を吐出する吐出装置を用いて、第1の配線と、前記第1の配線に接続される第2の配線とを含む回路を形成する回路形成方法であって、 前記第1の配線の形成予定位置に金属含有液を吐出する第1吐出工程と、 前記第1の配線と前記第2の配線との接続予定部を除いて、前記第1吐出工程において吐出された金属含有液を焼成することで、前記第1の配線を形成する第1焼成工程と、 前記接続予定部を含む前記第2の配線の形成予定位置に、金属含有液を吐出する第2吐出工程と、 前記第2吐出工程において吐出された金属含有液を焼成することで、前記第1の配線に接続された前記第2の配線を形成する第2焼成工程と を含む回路形成方法。
IPC (6件):
H05K 3/10 ( 200 6.01) ,  B05D 7/24 ( 200 6.01) ,  B05D 1/26 ( 200 6.01) ,  B05D 3/02 ( 200 6.01) ,  B05D 1/38 ( 200 6.01) ,  B05D 5/12 ( 200 6.01)
FI (6件):
H05K 3/10 D ,  B05D 7/24 303 C ,  B05D 1/26 Z ,  B05D 3/02 Z ,  B05D 1/38 ,  B05D 5/12 B
引用特許:
出願人引用 (6件)
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