特許
J-GLOBAL ID:202003010551541273
加熱装置および細胞培養装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人筒井国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-233224
公開番号(公開出願番号):特開2020-092655
出願日: 2018年12月13日
公開日(公表日): 2020年06月18日
要約:
【課題】加熱装置の性能を向上する。【解決手段】加熱装置10は、基板11と、基板11上に配置された複数の第1磁性体部13からなる発熱部12とを有し、複数の第1磁性体部13は、パターン化された配列構造を有し、交流磁場により、複数の第1磁性体部13のうちの一部が選択的に発熱する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
基板と、前記基板上に配置された複数の第1磁性体部からなる発熱部とを有し、
前記複数の第1磁性体部は、パターン化された配列構造を有し、
交流磁場により、前記複数の第1磁性体部のうちの一部が選択的に発熱する、加熱装置。
IPC (3件):
C12M 3/00
, C12M 1/00
, H05B 6/10
FI (3件):
C12M3/00 A
, C12M1/00 C
, H05B6/10
Fターム (11件):
3K059AA08
, 3K059CD73
, 3K059CD78
, 4B029AA02
, 4B029AA12
, 4B029BB01
, 4B029CC02
, 4B029DD06
, 4B029DF01
, 4B029GA03
, 4B029GB09
引用特許:
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