特許

J-GLOBAL ID：202003011603917818

ペルフルオロポリフェニレンゲル及び薄膜の製造方法

発明者： 田嶋 稔樹 ,  伊藤 亘
出願人/特許権者： 学校法人 芝浦工業大学
代理人 (1件)： 特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2020-074543
公開番号（公開出願番号）：特開2020-183517
出願日： 2020年04月20日
公開日（公表日）： 2020年11月12日
要約：

【課題】モノマー分子から一段階の反応で高分子量のペルフルオロポリアリーレンを合成することができ、さらにペルフルオロポリアリーレンの合成と同時に成膜することができる、ペルフルオロポリフェニレンの製造方法を提供すること。【解決手段】ペルフルオロアレーン(ここでアレーンはベンゼン又はビフェニルを示す)を電解還元重合する前駆体製造工程と、前駆体に脱ドープを行い、ペルフルオロポリアリーレンゲルを得る脱ドープ工程と、を含む、ペルフルオロポリアリーレンゲルの製造方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

ペルフルオロアレーン(ここでアレーンはベンゼン又はビフェニルを示す)を電解還元重合する前駆体製造工程と、 前駆体に脱ドープを行い、ペルフルオロポリアリーレンゲルを得る脱ドープ工程と、 を含む、ペルフルオロポリアリーレンゲルの製造方法。

IPC (1件)：

C08G 61/10

FI (1件)：

C08G61/10

Fターム (7件)：

4J032CA04 ,  4J032CA12 ,  4J032CB01 ,  4J032CE09 ,  4J032CF02 ,  4J032CG06 ,  4J032CG08