特許

J-GLOBAL ID：202003011711542430

放射性セシウム及び放射性ストロンチウムを含む放射性廃液の処理方法

発明者： 佐久間 貴志 ,  小松 誠 ,  出水 丈志 ,  宮部 慎介 ,  木ノ瀬 豊 ,  小指 健太 ,  野口 英治 ,  坂本 剛
出願人/特許権者： 株式会社荏原製作所 ,  日本化学工業株式会社
代理人 (3件)： 小野 新次郎 ,  松山 美奈子 ,  鐘ヶ江 幸男
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-555061
特許番号：特許第6708663号
出願日： 2016年12月06日
請求項（抜粋）：

【請求項1】結晶子径が60Å以上で、且つ格子面(100面)における回折ピークの半値幅が0.9 ゚以下である一般式:A4Ti4Si3O16・nH2O(式中、AはNa又はK又はこれらの組み合わせであり、nは0〜8の数を示す。)で表される結晶性シリコチタネートを含む、セシウム又はストロンチウムの吸着材であって、粒径250μm以上1200μm以下の粒子状の吸着材を10cm以上300cm以下の層高で充填した吸着塔に、放射性セシウム及び放射性ストロンチウムを含有する放射性廃液を通水線流速(LV)1m/h以上40m/h以下、空間速度(SV)200h-1以下で通水して、当該吸着材に放射性セシウム及び放射性ストロンチウムを吸着させることを含む、放射性セシウム及び放射性ストロンチウムを含有する放射性廃液の処理方法。

IPC (3件)：

G21F 9/12 ( 200 6.01) ,  B01J 20/10 ( 200 6.01) ,  B01J 20/28 ( 200 6.01)

FI (4件)：

G21F 9/12 501 J ,  G21F 9/12 501 D ,  B01J 20/10 C ,  B01J 20/28 Z