特許

J-GLOBAL ID：202003012164316272

排気浄化装置

発明者： 佐藤 聡 ,  井上 博史
出願人/特許権者： 日野自動車株式会社
代理人 (2件)： 恩田 誠 ,  恩田 博宣
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-113612
公開番号（公開出願番号）：特開2017-218963
特許番号：特許第6680624号
出願日： 2016年06月07日
公開日（公表日）： 2017年12月14日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 排気通路を流れる排気ガスに添加剤を添加する添加弁と、 前記排気ガスが流れる流通孔を有して前記排気通路を仕切る第1仕切板と、 前記排気ガスが流れる流通孔を有するとともに、前記第1仕切板の下流側、かつ、選択還元型触媒の上流側で前記排気通路を仕切る第2仕切板とを備え、 前記第1仕切板は、前記第1仕切板の中央部に形成された主流通孔と前記主流通孔を取り囲むように形成されて前記主流通孔よりも開孔面積の小さい複数の副流通孔とを有する領域であって前記中央部が他の部位よりも前記排気通路の上流側に位置するように突出する突出部を含む第1有孔領域と、前記第1有孔領域を取り囲む領域であって流通孔の形成されていない第1無孔領域とを有し、 前記第2仕切板は、前記排気通路の延在方向で前記主流通孔に重畳する部分を含む領域であって流通孔の形成されていない第2無孔領域と、前記第2無孔領域を取り囲むように複数の流通孔が形成された第2有孔領域とを有し、 前記添加弁は、前記延在方向において前記第1無孔領域に対向し、かつ、前記延在方向に直交する断面方向において前記突出部に対向する位置から前記第1無孔領域の周方向へ前記添加剤を噴射する噴射部を有する 排気浄化装置。

IPC (5件)：

F01N 3/24 ( 200 6.01) ,  F01N 3/08 ( 200 6.01) ,  B01D 53/86 ( 200 6.01) ,  B01D 53/90 ( 200 6.01) ,  B01D 53/94 ( 200 6.01)

FI (6件)：

F01N 3/24 ZAB N ,  F01N 3/08 B ,  B01D 53/86 222 ,  B01D 53/90 ,  B01D 53/94 222 ,  B01D 53/94 400