特許
J-GLOBAL ID:202003012695288699
ガスバリアフィルムの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP2018028076
公開番号(公開出願番号):WO2019-031262
出願日: 2018年07月26日
公開日(公表日): 2019年02月14日
要約:
【課題】 透明性、ガスバリア性に優れたガスバリアフィルムを、高速で生産できる製造方法を提供すること。【解決手段】 高分子基材の少なくとも一方の面に無機薄膜層を積層したガスバリアフィルムを製造する方法であって、該無機薄膜層は真空蒸着法で成膜され、かつ蒸着材料としてAl、及びSiO2を用いて、酸素ガスを導入しながら成膜されることを特徴とする、ガスバリアフィルムの製造方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
高分子基材の少なくとも一方の面に無機薄膜層を積層したガスバリアフィルムを製造する方法であって、該無機薄膜層は真空蒸着法で成膜され、かつ蒸着材料としてAl、及びSiO2を用いて、酸素ガスを導入しながら成膜されることを特徴とする、ガスバリアフィルムの製造方法。
IPC (4件):
C23C 14/24
, B32B 9/00
, B32B 37/14
, C23C 14/08
FI (4件):
C23C14/24 S
, B32B9/00 A
, B32B37/14 Z
, C23C14/08 K
Fターム (27件):
4F100AA19
, 4F100AA19B
, 4F100AA20
, 4F100AA20B
, 4F100AK01A
, 4F100AK42
, 4F100BA02
, 4F100BA07
, 4F100EH66
, 4F100EH66B
, 4F100GB15
, 4F100JD02B
, 4F100JD03
, 4F100JN01
, 4K029AA11
, 4K029AA25
, 4K029BA50
, 4K029BD00
, 4K029CA02
, 4K029DB02
, 4K029DB05
, 4K029DB10
, 4K029DB12
, 4K029DB13
, 4K029DB21
, 4K029JA10
, 4K029KA03
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