特許

J-GLOBAL ID：202003012955629738

合成ガス製造用触媒構造体、該合成ガス製造用触媒構造体を備える合成ガス製造装置及び合成ガス製造用触媒構造体の製造方法

発明者： 増田 隆夫 ,  中坂 佑太 ,  吉川 琢也 ,  加藤 禎宏 ,  福嶋 將行 ,  高橋 尋子 ,  馬場 祐一郎 ,  関根 可織
出願人/特許権者： 古河電気工業株式会社
代理人 (5件)： アインゼル・フェリックス=ラインハルト ,  前川 純一 ,  二宮 浩康 ,  上島 類 ,  住吉 秀一
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2018021085
公開番号（公開出願番号）：WO2018-221697
出願日： 2018年05月31日
公開日（公表日）： 2018年12月06日
要約：

触媒活性の低下が抑制され、一酸化炭素と水素とを含む合成ガスを効率良く製造することが可能な合成ガス製造用触媒構造体及びその合成ガス製造用触媒構造体を備える合成ガス製造装置を提供する。 本発明の合成ガス製造用触媒構造体(1)は、一酸化炭素と水素とを含む合成ガスを製造する際に用いられる合成ガス製造用触媒構造体(1)であって、ゼオライト型化合物で構成される多孔質構造の担体(10)と、担体(10)に内在する少なくとも1つの触媒物質(20)と、を備え、担体(10)が、互いに連通する通路(11)を有し、触媒物質(20)が、金属微粒子であり、担体(10)の少なくとも通路(11)に存在している。

請求項（抜粋）：

一酸化炭素と水素とを含む合成ガスを製造する際に用いられる合成ガス製造用触媒構造体であって、 ゼオライト型化合物で構成される多孔質構造の担体と、 前記担体に内在する少なくとも1つの触媒物質と、 を備え、 前記担体が、互いに連通する通路を有し、 前記触媒物質が、金属微粒子であり、前記担体の少なくとも前記通路に存在していることを特徴とする合成ガス製造用触媒構造体。

IPC (2件)：

B01J 29/035 ,  C01B 3/26

FI (2件)：

B01J29/035 M ,  C01B3/26

Fターム (46件)：

4G140AB03 ,  4G140DA04 ,  4G140DC02 ,  4G140DC03 ,  4G169AA03 ,  4G169AA09 ,  4G169BA02A ,  4G169BA02B ,  4G169BA23C ,  4G169BB02A ,  4G169BB02B ,  4G169BC66A ,  4G169BC66B ,  4G169BC67A ,  4G169BC67B ,  4G169BC68A ,  4G169BC68B ,  4G169BC75A ,  4G169BC75B ,  4G169BE17C ,  4G169BE33C ,  4G169CC04 ,  4G169CC07 ,  4G169DA06 ,  4G169EB10 ,  4G169EB18X ,  4G169EC11X ,  4G169EC12X ,  4G169EC13X ,  4G169EC14X ,  4G169EC15X ,  4G169EC29 ,  4G169FA02 ,  4G169FB14 ,  4G169FB30 ,  4G169FB44 ,  4G169FC03 ,  4G169FC08 ,  4G169ZA36A ,  4G169ZA36B ,  4G169ZB03 ,  4G169ZB08 ,  4G169ZB09 ,  4G169ZD06 ,  4G169ZF05A ,  4G169ZF05B