特許
J-GLOBAL ID：202003013326531586
サスペンドメタルマスクの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
下田 達也
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-034931
公開番号（公開出願番号）：特開2017-149059
特許番号：特許第6725997号
出願日： 2016年02月25日
公開日（公表日）： 2017年08月31日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 第1の電鋳母型の表面にマスクパターンに相当するパターンを持つ第1のレジスト膜を形成するステップと、第1の電鋳母型の第1のレジスト膜に覆われていない表面に1次電着層を電着形成するステップと、第1のレジスト膜と1次電着層の一方の面に保持層を形成するステップと、第1のレジスト膜と1次電着層と保持層を第1の電鋳母型から剥離し、第2の電鋳母型とするステップと、第2の電鋳母型の1次電着層の他方の面に離型層を形成するステップと、第2の電鋳母型の第1のレジスト膜と離型層を形成した1次電着層に導電性を有するメッシュスクリーンを密着するステップと、メッシュスクリーンの方向からめっきをかけて1次電着層の離型層を形成した面に2次電着層を電着形成してメッシュスクリーンと2次電着層を一体化するステップと、第2の電鋳母型から一体化したメッシュスクリーンと2次電着層とを剥離するステップとを有する、レジスト研磨痕がサスペンドメタルマスク表面に転写されないことを特徴とするサスペンドメタルマスクの製造方法。
IPC (2件)：
B41N 1/24 ( 200 6.01)
, B41C 1/14 ( 200 6.01)
B41N 1/24
, B41C 1/14 101
