特許

J-GLOBAL ID：202003013687379924

酢酸の製造方法

発明者： 清水 雅彦
出願人/特許権者： 株式会社ダイセル
代理人 (1件)： 特許業務法人後藤特許事務所
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2018018647
公開番号（公開出願番号）：WO2019-220522
出願日： 2018年05月15日
公開日（公表日）： 2019年11月21日
要約：

簡易な手段で製品酢酸中のギ酸濃度を低減できる方法を提供する。 本発明の酢酸の製造方法では、酢酸の製造プロセスにおいて、下記(i)の操作条件を満たす工程及び下記(ii)の操作条件を満たす工程から選択される少なくとも1つの工程を有し、且つ1以上のプロセスについて下記(iii)及び下記(iv)から選択される少なくとも1つを満たす態様で酸素濃度を制御する。 (i)水素分圧が500kPa(絶対圧)未満、二酸化炭素分圧が70kPa(絶対圧)未満、且つ操作温度が150°Cを超える操作条件 (ii)水素分圧が5kPa(絶対圧)以下、二酸化炭素分圧が20kPa(絶対圧)未満、且つ操作温度が100°Cを超える操作条件 (iii)気相中の酸素濃度を7体積%未満に制御する (iv)液相中の酸素濃度を7×10-5g/g未満に制御する

請求項（抜粋）：

酢酸の製造プロセスにおいて、下記(i)の操作条件を満たす工程及び下記(ii)の操作条件を満たす工程から選択される少なくとも1つの工程を有し、且つ1以上のプロセスについて下記(iii)及び下記(iv)から選択される少なくとも1つを満たす態様で酸素濃度を制御する酢酸の製造方法。 (i)水素分圧が500kPa(絶対圧)未満、二酸化炭素分圧が70kPa(絶対圧)未満、且つ操作温度が150°Cを超える操作条件 (ii)水素分圧が5kPa(絶対圧)以下、二酸化炭素分圧が20kPa(絶対圧)未満、且つ操作温度が100°Cを超える操作条件 (iii)気相中の酸素濃度を7体積%未満に制御する (iv)液相中の酸素濃度を7×10-5g/g未満に制御する

IPC (3件)：

C07C 51/12 ,  C07C 53/08 ,  C07C 51/44

FI (3件)：

C07C51/12 ,  C07C53/08 ,  C07C51/44

Fターム (17件)：

4H006AA02 ,  4H006AC46 ,  4H006AD11 ,  4H006BA24 ,  4H006BA37 ,  4H006BA40 ,  4H006BA49 ,  4H006BB31 ,  4H006BC10 ,  4H006BC37 ,  4H006BD40 ,  4H006BD52 ,  4H006BD53 ,  4H006BE40 ,  4H006BS10 ,  4H039CA65 ,  4H039CF30