特許
J-GLOBAL ID：202003013948617321

光学フィルタの製造方法

発明者：
西山 道子

西山 道子 について

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渡辺 一弘

渡辺 一弘 について

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井田 旬一

井田 旬一 について

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窪寺 昌一

窪寺 昌一 について

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佐々木 博幸

佐々木 博幸 について


出願人/特許権者：
学校法人 創価大学

学校法人 創価大学 について


代理人 (1件)： 特許業務法人創成国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-007240
公開番号（公開出願番号）：特開2020-118727
出願日： 2019年01月18日
公開日（公表日）： 2020年08月06日
要約：
【課題】屈折率の異なる2種類以上の誘電体薄膜からなる多層膜を、交互成膜法により基板上に形成することができる光学フィルタの製造方法を提供する。【解決手段】光学フィルタ1の製造方法は、基板2上にポリリジン層14を形成する工程と、ポリリジン層14が形成された基板2を5〜20nmの粒子径を備える二酸化チタンナノ粒子を10〜20質量%の濃度で含有する二酸化チタンナノ粒子水分散液に浸漬してポリリジン層14の上に二酸化チタンナノ粒子被膜15を形成する工程とを繰り返し、複数のポリリジン層14と二酸化チタンナノ粒子被膜15とが交互に積層された多層膜3を形成する工程とを備える。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板上に形成された多層膜を備える光学フィルタの製造方法であって、 該基板を5〜20ミリモル/リットルの範囲の濃度を備えるポリリジン溶液に浸漬した後、乾燥して溶媒を除去することにより該基板上にポリリジン層を形成する工程と、 該ポリリジン層が形成された基板を、5〜20nmの範囲の粒子径を備える二酸化チタンナノ粒子を10〜20質量%の範囲の濃度で含有する二酸化チタンナノ粒子水分散液に浸漬した後、乾燥することにより該ポリリジン層の上に二酸化チタンナノ粒子からなる二酸化チタンナノ粒子被膜を形成する工程と、 該ポリリジン層を形成する工程と該二酸化チタンナノ粒子被膜を形成する工程とを繰り返し、複数の該ポリリジン層と該二酸化チタンナノ粒子被膜とが交互に積層された多層膜を形成する工程とを備えることを特徴とする光学フィルタの製造方法。
IPC (4件)：
G02B 5/28 ,  G02B 5/26 ,  B32B 9/00 ,  B32B 37/02
FI (4件)：
G02B5/28 ,  G02B5/26 ,  B32B9/00 A ,  B32B37/02
Fターム (28件)：
2H148FA04 ,  2H148FA05 ,  2H148FA09 ,  2H148FA11 ,  2H148FA24 ,  2H148GA05 ,  2H148GA11 ,  2H148GA33 ,  2H148GA62 ,  2H150AC37 ,  4F100AA21C ,  4F100AA21E ,  4F100AJ09B ,  4F100AJ09D ,  4F100AT00A ,  4F100BA05 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10E ,  4F100DE01C ,  4F100DE01E ,  4F100DG01A ,  4F100EJ82B ,  4F100EJ82C ,  4F100EJ82D ,  4F100EJ82E ,  4F100GB41 ,  4F100JN18
引用特許：
審査官引用 (4件)
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