特許
J-GLOBAL ID:202003014028942251

アンモニア、アミンおよびアミジンによるカルボシランの触媒的脱水素カップリング

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 大渕 美千栄 ,  布施 行夫
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2017-548040
特許番号:特許第6732782号
出願日: 2016年03月30日
請求項(抜粋):
【請求項1】 式: R1R2N-SiHR3-(CH2)n-SiH2R4 (式中: a)R1、R3、およびR4がHであり、R2が、-SiH2-(CH2)n-SiH3であり; b)R3およびR4がHであり、R1およびR2が、-SiH2-(CH2)n-SiH3であり; c)R1がRであり、R2がC(Me)=NRであり、R3およびR4がHであり、各Rが、独立して、H、C1〜C6アルキル基またはC3〜C20アリール、複素環またはシクロアルキル基であり;または d)R1がRであり、R2がC(Me)=NRであり、R3がHであり、R4がN(R)C(Me)=NRであり、各Rが、独立して、H、C1〜C6アルキル基またはC3〜C20アリール、複素環またはシクロアルキル基であり、 n=2である)で表されるSi-N含有前駆体を含むSi含有膜形成組成物。
IPC (3件):
C23C 16/42 ( 200 6.01) ,  C07F 7/10 ( 200 6.01) ,  C07B 61/00 ( 200 6.01)
FI (4件):
C23C 16/42 ,  C07F 7/10 F ,  C07F 7/10 H ,  C07B 61/00 300
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 特許第6578353号
審査官引用 (1件)
  • 特許第6578353号
引用文献:
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