特許
J-GLOBAL ID：202003014600613841

基板保持装置、基板処理装置および基板保持方法

発明者：
上野 幸一

上野 幸一 について


出願人/特許権者：
株式会社SCREENホールディングス

株式会社SCREENホールディングス について


代理人 (2件)： 振角 正一 ,  大西 一正
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-223741
公開番号（公開出願番号）：特開2020-088275
出願日： 2018年11月29日
公開日（公表日）： 2020年06月04日
要約：
【課題】発塵および基板へのダメージ導入を発生させることなく、基板の反りを確実に解消して基板全域を良好に保持する。【解決手段】基板を下方から支持するステージと、ステージに支持された基板の反りを矯正する矯正機構とを備え、矯正機構により反りが矯正された基板をステージで保持する基板保持装置であって、矯正機構は、基板の上面の周縁部の上方で上下方向に移動可能な矯正ブロックと、矯正ブロックの下面から基板の上面に向けて第1気体を噴出して基板の上面と矯正ブロックの下面との間に気体層を形成する気体層形成部と、基板と非接触状態を保ちつつ矯正ブロックを下方に移動させることで気体層を周縁部に押し付けて基板の反りを矯正する移動部とを有している。【選択図】図7
請求項（抜粋）：
基板を下方から支持するステージと、前記ステージに支持された前記基板の反りを矯正する矯正機構とを備え、前記矯正機構により前記反りが矯正された前記基板を前記ステージで保持する基板保持装置であって、 前記矯正機構は、 前記基板の上面の周縁部の上方で上下方向に移動可能な矯正ブロックと、 前記矯正ブロックの下面から前記基板の上面に向けて第1気体を噴出して前記基板の上面と前記矯正ブロックの下面との間に気体層を形成する気体層形成部と、 前記基板と非接触状態を保ちつつ前記矯正ブロックを下方に移動させることで前記気体層を前記周縁部に押し付けて前記基板の反りを矯正する移動部と を有することを特徴とする基板保持装置。
IPC (2件)：
H01L 21/683 ,  H01L 21/68
FI (3件)：
H01L21/68 P ,  H01L21/68 N ,  H01L21/68 G
Fターム (21件)：
5F131AA02 ,  5F131AA03 ,  5F131AA32 ,  5F131AA33 ,  5F131AA34 ,  5F131BA12 ,  5F131CA07 ,  5F131CA09 ,  5F131CA15 ,  5F131EA02 ,  5F131EB01 ,  5F131EB72 ,  5F131FA14 ,  5F131JA12 ,  5F131JA13 ,  5F131JA27 ,  5F131KA22 ,  5F131KA25 ,  5F131KA54 ,  5F131KB05 ,  5F131KB12
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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