特許
J-GLOBAL ID:202003014836595925

多孔質シリカ系粒子、及び洗浄用化粧料

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): ▲高▼津 一也
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-074756
公開番号(公開出願番号):特開2017-186187
特許番号:特許第6703432号
出願日: 2016年04月01日
公開日(公表日): 2017年10月12日
請求項(抜粋):
【請求項1】(i)天然由来高分子の含有量が1〜50質量%の範囲であり、 (ii)細孔容積(Pv)が0.1≦Pv<2.0ml/gの範囲であり、 (iii)メジアン径(D50)が100〜1000μmの範囲であり、 (iv)最大粒子径(D100)とメジアン径(D50)との比(D100/D50)が3.0以下であり、 (v)1.0〜1.4KPaの荷重で30秒間塗擦した後のメジアン径(DR50)が5〜40μmの範囲にあり、最大粒子径(DR100)が15〜200μmの範囲、または、1.0〜1.4KPaの荷重で30秒間塗擦した後のメジアン径(DR50)が100〜1000μmの範囲にあり、最大粒子径(DR100)が150〜3000μmの範囲であることを特徴とする多孔質シリカ系粒子。
IPC (3件):
C01B 33/193 ( 200 6.01) ,  A61K 8/25 ( 200 6.01) ,  A61Q 19/10 ( 200 6.01)
FI (3件):
C01B 33/193 ,  A61K 8/25 ,  A61Q 19/10

前のページに戻る