特許

J-GLOBAL ID：202003015556881309

クリーニング方法

発明者： 田村 辰也 ,  梅原 隆人
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (2件)： 伊東 忠重 ,  伊東 忠彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-237074
公開番号（公開出願番号）：特開2018-093121
特許番号：特許第6749225号
出願日： 2016年12月06日
公開日（公表日）： 2018年06月14日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 処理室内において基板を上面に載置可能な回転テーブルと、回転テーブルの上方に回転テーブルの回転方向に沿って互いに離間して配置された第1の処理領域及び第2の処理領域と、第1の処理領域及び第2の処理領域との間に配置された分離領域と、が設けられ、前記分離領域に前記処理室内の天井面の側から下方に向かって突出する突出部が設けられて前記第1の処理領域及び前記第2の処理領域よりも低い天井面が形成され、前記第1の処理領域及び/又は前記第2の処理領域にクリーニングガス、前記分離領域にパージガスが供給可能であり、前記第1の処理領域と前記第2の処理領域との雰囲気を分離するために前記処理室内の中心部に位置し、前記回転テーブルの基板載置面に分離ガスを供給する分離ガス供給管が設けられた中心領域を有する成膜装置を用いたクリーニング方法であって、 前記回転テーブルを、第1のクリーニング位置において回転させた状態で、前記回転テーブルの基板載置面の上方からクリーニングガスを供給する第1のクリーニング工程と、 前記回転テーブルを、前記第1のクリーニング位置よりも下方である第2のクリーニング位置において回転させた状態で、前記回転テーブルの基板載置面の上方から前記クリーニングガスを供給する第2のクリーニング工程と、 を含み、 前記第2のクリーニング工程は、前記中心領域から供給される分離ガスの流量を前記第1のクリーニング工程よりも小さくした状態で行う工程である、 クリーニング方法。

IPC (3件)：

H01L 21/31 ( 200 6.01) ,  H01L 21/302 ( 200 6.01) ,  C23C 16/44 ( 200 6.01)

FI (3件)：

H01L 21/31 B ,  H01L 21/302 201 A ,  C23C 16/44 J

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 成膜装置の運転方法及び成膜装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2012-152659   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 表面処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2012-069253   出願人：株式会社豊田中央研究所, トヨタ自動車株式会社

審査官引用 (2件)

• 成膜装置の運転方法及び成膜装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2012-152659   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 表面処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2012-069253   出願人：株式会社豊田中央研究所, トヨタ自動車株式会社