特許
J-GLOBAL ID:202003015845565733

環状ジオールの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史 ,  江口 昭彦 ,  内藤 和彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-161372
公開番号(公開出願番号):特開2020-033301
出願日: 2018年08月30日
公開日(公表日): 2020年03月05日
要約:
【課題】 長期間安定に且つ高選択的に環状ジオールを製造する方法を提供すること。【解決手段】 中間細孔径ゼオライトを含有する触媒の存在下、環状エポキシと水とを反応させる反応工程を含む環状ジオールの製造方法であって、 前記環状エポキシが式(1)で表され、 前記環状ジオールが式(2)で表され、 前記反応工程の原料が、前記環状エポキシ、前記水、及び前記環状ジオールを含む、環状ジオールの製造方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
中間細孔径ゼオライトを含有する触媒の存在下、環状エポキシと水とを反応させる反応工程を含む環状ジオールの製造方法であって、 前記環状エポキシが式(1)で表され、 前記環状ジオールが式(2)で表され、 前記反応工程の原料が、前記環状エポキシ、前記水、及び前記環状ジオールを含む、 環状ジオールの製造方法。
IPC (2件):
C07C 29/10 ,  C07C 35/14
FI (2件):
C07C29/10 ,  C07C35/14
Fターム (12件):
4H006AA02 ,  4H006AB84 ,  4H006AC41 ,  4H006BA71 ,  4H006BE60 ,  4H006DA12 ,  4H006DA15 ,  4H006FC22 ,  4H006FE12 ,  4H006FG22 ,  4H039CA60 ,  4H039CH60
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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