特許

J-GLOBAL ID：202003016490234621

液体貯留装置及びその洗浄方法

発明者： 松永 博樹 ,  重倉 正樹 ,  山口 賢之 ,  脇本 崇 ,  川口 佑介 ,  坂本 慧
出願人/特許権者： 本田技研工業株式会社
代理人 (6件)： 千葉 剛宏 ,  宮寺 利幸 ,  千馬 隆之 ,  仲宗根 康晴 ,  坂井 志郎 ,  関口 亨祐
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2018028782
公開番号（公開出願番号）：WO2019-026938
出願日： 2018年08月01日
公開日（公表日）： 2019年02月07日
要約：

液体貯留装置(10)は、軸線が略水平に延在するように配置されたシリンダ(50)を備える。液体貯留装置(10)の洗浄方法では、シリンダ(50)における撹拌部材(60)よりも上方に設けられた第1開閉弁(44a)から貯留室(51)内に洗浄液を供給するとともに撹拌部材(60)を回転させる第1洗浄工程と、シリンダ(50)における撹拌部材(60)よりも下方に設けられた第2開閉弁(44b)から貯留室(51)内に洗浄液を供給するとともに撹拌部材(60)を回転させる第2洗浄工程とを行う。

請求項（抜粋）：

所定の液体を貯留可能な貯留室(51)が形成され、且つ軸線が略水平に延在するように配置されたシリンダ(50)と、 前記貯留室(51)内に設けられた撹拌部材(60、90、96)と、 前記シリンダ(50)における前記撹拌部材(60、90、96)の上方の部位に設けられ、且つ前記貯留室(51)内に洗浄液及び気体を供給可能な第1開閉弁(44a)と、 前記シリンダ(50)における前記撹拌部材(60、90、96)の下方の部位に設けられ、且つ前記貯留室(51)内に洗浄液及び気体を供給可能な第2開閉弁(44b)と、を備え、 液体貯留装置(10、10a、10b)は、前記貯留室(51)内の洗浄液を前記シリンダ(50)における前記撹拌部材(60、90、96)よりも下方の位置から排出可能に構成されている、 ことを特徴とする液体貯留装置(10、10a、10b)。

IPC (4件)：

B01F 7/04 ,  B01F 15/00 ,  B01F 15/04 ,  B01F 15/02

FI (5件)：

B01F7/04 A ,  B01F15/00 D ,  B01F15/04 C ,  B01F15/04 D ,  B01F15/02 C

Fターム (10件)：

4G037AA11 ,  4G037BA01 ,  4G037BB02 ,  4G037DA14 ,  4G078AB20 ,  4G078BA01 ,  4G078CA01 ,  4G078DA01 ,  4G078EA10 ,  4G078EA20