特許
J-GLOBAL ID：202003016588122295
プラズマ調整用の支援装置、プラズマ調整方法及び記憶媒体
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
特許業務法人弥生特許事務所
, 井上 俊夫
, 三井田 友昭
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-124686
公開番号（公開出願番号）：特開2017-228459
特許番号：特許第6683924号
出願日： 2016年06月23日
公開日（公表日）： 2017年12月28日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 処理容器内に配置された基板の中央部上方に位置する同軸導波管から平板上のスロットアンテナ及び誘電体板を介して前記処理容器内に伝播したマイクロ波により処理ガスをプラズマ化して前記基板に対してプラズマ処理を行い、マイクロ波の電界分布を調整するための調整部が処理容器の周方向に沿って複数設けられたプラズマ処理装置に用いられるプラズマ調整用の支援装置であって、
平面で見て前記同軸導波管の中心軸から予め設定された距離だけ離れ、周方向に沿って位置する複数の特定位置におけるプラズマの電子密度に対応する指標値について、前記調整部毎に調整部の各調整位置同士の間の前記指標値の増減量を規定したデータを含む指標値の推定用のデータを記憶する記憶部と、
プラズマを発生させたときの前記指標値の測定結果と前記調整部の調整位置とを入力するための入力部と、
前記入力部に入力した入力事項と前記推定用データとに基づいて、前記調整部の調整位置毎の指標値を推定し、複数の調整部の調整位置の組合せと、各組合せに対応する周方向の複数の前記指標値の推定値と、に基づいて、前記調整部の調整位置の適切な組合せを選択する機能を有するデータ処理部と、を備えたことを特徴とするプラズマ調整用の支援装置。
IPC (2件)：
H05H 1/46 ( 200 6.01)
, H05H 1/00 ( 200 6.01)
H05H 1/46 B
, H05H 1/00 A
