特許
J-GLOBAL ID：202003017501693450
小型ブラッグ格子パルス成形器を有するチャープパルス増幅レーザーシステム及び、これを近変換限界パルスを発生させるために動作させる方法
発明者：
,
,
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
村山 靖彦
, 実広 信哉
, 阿部 達彦
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-553551
公開番号（公開出願番号）：特表2020-516073
出願日： 2018年03月29日
公開日（公表日）： 2020年05月28日
要約：
超短パルスチャープパルス増幅(CPA)レーザーシステム及びCPAレーザーシステムを動作させる方法は、モードロックレーザーによる近変換限界(TL)パルスの出力を含む。本システム及び方法は、第1のブラッグ格子によるTLパルスの時間的な引延ばしをさらに含み、そのため、チャープを有するそれぞれ引き延ばされたパルスを提供し、このパルスはさらに、圧縮器として動作する第2のブラッグ格子で補償される。レーザーシステム及び方法はさらに、再圧縮されたパルスにわたってスペクトル位相を測定し、修正信号を発生することによってTLパルスのそれからの測定されたスペクトル位相の逸脱を調整するパルス成形ユニットを含む。修正信号は、所望の位相変化を誘導するように選択的に作動されるBGの一方の各区画に結合されたアクチュエータのアレイに印加され、そのため、一方のBGはストレッチャー/圧縮器及びパルス成形器の両方として動作する。
請求項（抜粋）：
ある経路に沿って近変換限界(TL)サブナノ秒(sub-ns)パルスを放出するレーザー源と、TLパルスを引き延ばす第1のブラッグ格子(BG)と、チャープパルスを再圧縮する第2のBGと、を有して構成されたチャープパルス増幅(CPA)レーザーシステムの出力において、変換限界サブナノ秒(sub-ns)パルスを発生するための方法であって、
前記第1及び第2のBGのうち少なくとも一方を較正する段階であって、較正された前記BGが、間隔を開けられた複数の区画を有し、前記較正が、
一方の前記BGにわたる区画の周波数への対応を決定する段階と、
一方の前記BGにわたる温度のスペクトル位相に対する依存性または、電圧のスペクトル位相に対する依存性を決定する段階と、を含む、前記第1及び第2のBGのうち少なくとも一方を較正する段階と、
圧縮された各パルスのスペクトルにわたって、それぞれの区画について位相修正を計算し、それによって、所望の電圧または温度プロファイルを得る段階と、
前記所望の温度または電圧プロファイルを一方の前記BGに印加し、それによって、近変換限界圧縮サブnsパルスを出力するように、前記区画を選択的に作動させて一方の前記BGをチューニングする段階と、
を含む、方法。
IPC (4件)：
H01S 3/10
, H01S 3/098
, G02F 1/01
, H01S 3/067
H01S3/10 Z
, H01S3/098
, G02F1/01 Z
, H01S3/067
2K102AA21
, 2K102BA01
, 2K102BA16
, 2K102BA22
, 2K102BB01
, 2K102BB02
, 2K102BB04
, 2K102BC04
, 2K102BC06
, 2K102BD09
, 2K102DA04
, 2K102DB04
, 2K102EB08
, 2K102EB16
, 2K102EB20
, 2K102EB23
, 2K102EB24
, 2K102EB25
, 2K102EB26
, 5F172AE03
, 5F172AL07
, 5F172AM08
, 5F172DD03
, 5F172NN14
, 5F172NN17
, 5F172NN26
, 5F172NR03
, 5F172NR13
, 5F172NR14
, 5F172NR30
