特許
J-GLOBAL ID:202003017829968022

構真柱支持方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 宮地 正浩
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-220543
公開番号(公開出願番号):特開2020-084579
出願日: 2018年11月26日
公開日(公表日): 2020年06月04日
要約:
【課題】後に構築する新設基礎と既存耐圧盤との設置レベルの差を利用した合理的な改良により、構真柱の大きな軸力を平面的に分散させた状態で既存耐圧盤の下方の支持部に支持させる。【解決手段】後に構築する新設基礎51に定着される構真柱7を、新設基礎51の設置予定箇所よりも下方の既存耐圧盤2を介して当該既存耐圧盤2の下方の支持部13に支持させる構真柱支持方法であって、既存耐圧盤2の上面部と構真柱7の下端部との間の空間に充填材8を充填し、当該充填材8を介して構真柱7の軸力を平面的に分散させた状態で既存耐圧盤2に伝達する。【選択図】図5
請求項(抜粋):
後に構築する新設基礎に定着される構真柱を、新設基礎の設置予定箇所よりも下方の既存耐圧盤を介して前記既存耐圧盤の下方の支持部に支持させる構真柱支持方法であって、 前記既存耐圧盤の上面部と前記構真柱の下端部との間の空間に充填材を充填し、当該充填材を介して前記構真柱の軸力を平面的に分散させた状態で前記既存耐圧盤に伝達する構真柱支持方法。
IPC (4件):
E02D 27/00 ,  E04B 1/16 ,  E04G 23/06 ,  E04G 21/02
FI (4件):
E02D27/00 D ,  E04B1/16 B ,  E04G23/06 Z ,  E04G21/02 103Z
Fターム (5件):
2D046AA14 ,  2E172DA01 ,  2E172DB01 ,  2E172DB03 ,  2E176DD61
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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