特許
J-GLOBAL ID：202003018003855201
基板処理装置及び基板処理装置における外気漏洩箇所特定方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
伊東 忠重
, 伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-155036
公開番号（公開出願番号）：特開2020-030080
出願日： 2018年08月21日
公開日（公表日）： 2020年02月27日
要約：
【課題】外気漏洩箇所の特定に有利な基板処理装置及び基板処理装置における外気漏洩箇所特定方法を提供すること。【解決手段】基板処理装置であって、ローディングエリア内において、外気が漏洩する可能性を有する複数の外気漏洩可能箇所に対して設定されている複数のサンプリングポートから延設するサンプリング配管と、サンプリング配管が連通する酸素濃度計と、それぞれのサンプリングポートに対応する位置にある多連式の自動開閉弁と、ローディングエリア内に不活性ガスをパージするパージ機構と、コントローラと、を有し、コントローラは、複数の自動開閉弁のうちの1つをオープンし、その他をクローズする切替え制御を全てのサンプリングポートに対して実行し、各切替え制御の後にオープンしている自動開閉弁に対応するサンプリングポートの酸素濃度計測信号を酸素濃度計から受信し、濃度計測値と濃度閾値とを比較する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板を熱処理する熱処理炉を備えた熱処理エリアと、前記熱処理炉との間で前記基板を搬出入するローディングエリアと、を少なくとも有する基板処理装置であって、
前記ローディングエリア内において、外気が漏洩する可能性を有する複数の外気漏洩可能箇所に対して設定されている複数のサンプリングポートから延設するサンプリング配管と、
前記サンプリング配管が連通する酸素濃度計と、
前記サンプリング配管の途中位置であって、それぞれの前記サンプリングポートに対応する位置にある多連式の自動開閉弁と、
前記ローディングエリア内に不活性ガスをパージして不活性ガス雰囲気とするパージ機構と、
コントローラと、を有し、
前記コントローラは、
酸素濃度の濃度閾値を格納し、
複数の前記自動開閉弁のうちの1つをオープンし、その他をクローズする切替え制御を全ての前記サンプリングポートに対して実行し、各切替え制御の後にオープンしている前記自動開閉弁に対応する前記サンプリングポートの酸素濃度計測信号を前記酸素濃度計から受信し、
全ての前記サンプリングポートにおける濃度計測値と前記濃度閾値とを比較し、前記濃度閾値を超える酸素濃度を有する前記サンプリングポートを特定する、基板処理装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (4件)：
2G067AA01
, 2G067AA21
, 2G067CC11
, 2G067DD17
