特許

J-GLOBAL ID：202003018387009973

荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法

発明者： 山田 拓
出願人/特許権者： 株式会社ニューフレアテクノロジー
代理人 (2件)： 重野 剛 ,  重野 隆之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-146121
公開番号（公開出願番号）：特開2020-021880
出願日： 2018年08月02日
公開日（公表日）： 2020年02月06日
要約：

【課題】計算量を抑えつつ、高精度にドリフト補正を行う。【解決手段】本発明の一態様による荷電粒子ビーム描画装置は、荷電粒子ビームを放出する放出部と、ステージに載置された基板に対する前記荷電粒子ビームの照射位置を調整する偏向器と、描画データから、ショット毎のショットサイズ、ショット位置及びビームオン・オフ時間を含むショットデータを生成するショットデータ生成部と、複数のショットデータを参照し、複数ショットのショットサイズ、ショット位置及びビームオン・オフ時間に基づいて、前記基板に照射される荷電粒子ビームの照射位置のドリフト量を算出し、該ドリフト量に基づいて照射位置ずれを補正する補正情報を生成するドリフト補正部と、前記ショットデータ及び前記補正情報に基づいて前記偏向器による偏向量を制御する偏向制御部と、を備える。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

荷電粒子ビームを放出する放出部と、 ステージに載置された基板に対する前記荷電粒子ビームの照射位置を調整する偏向器と、 描画データから、ショット毎のショットサイズ、ショット位置及びビームオン・オフ時間を含むショットデータを生成するショットデータ生成部と、 複数のショットデータを参照し、複数ショットのショットサイズ、ショット位置及びビームオン・オフ時間に基づいて、前記基板に照射される荷電粒子ビームの照射位置のドリフト量を算出し、該ドリフト量に基づいて照射位置ずれを補正する補正情報を生成するドリフト補正部と、 前記ショットデータ及び前記補正情報に基づいて前記偏向器による偏向量を制御する偏向制御部と、 を備える荷電粒子ビーム描画装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  H01J 37/305 ,  H01J 37/147

FI (6件)：

H01L21/30 541E ,  H01L21/30 541Q ,  H01L21/30 541W ,  G03F7/20 504 ,  H01J37/305 B ,  H01J37/147 C

Fターム (9件)：

5C033GG05 ,  5C034BB04 ,  5C034BB10 ,  5F056AA04 ,  5F056CB14 ,  5F056CC04 ,  5F056CD03 ,  5F056CD06 ,  5F056EA06