特許
J-GLOBAL ID:202003018698844191
基板処理装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (5件):
永井 浩之
, 中村 行孝
, 佐藤 泰和
, 朝倉 悟
, 森 秀行
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-208427
公開番号(公開出願番号):特開2019-036751
特許番号:特許第6625714号
出願日: 2018年11月05日
公開日(公表日): 2019年03月07日
請求項(抜粋):
【請求項1】 基板を保持する基板保持部と、
処理液を前記基板の表面に向けて吐出する第1ノズルと、
前記基板保持部を回転させる回転駆動部と、
前記基板保持部の周囲を囲み、前記基板保持部により保持されて回転する基板から飛散する前記処理液を受け止めて回収する回収カップと、を備え、
前記回収カップは、
上端に近づくに従って半径方向内側に向かうように傾斜した上部分と、円筒形の下部分と、を有する上カップ体と、
前記上カップ体の前記上部分の上端よりも外側に付着して前記上カップ体の前記下部分の外側を下方へと通過する液体が前記下部分よりも内側の下方に流れ落ちることを可能とする溝と、を有し、
前記回収カップは、前記上カップ体を内側に支持し、前記基板保持部に対して相対的に昇降可能な円筒形の外カップ体をさらに有し、
前記外カップ体と前記上カップ体の前記下部分との間に、液体が前記外カップ体と前記上カップ体の前記下部分との間を通過することを可能とする隙間が形成され、
処理チャンバの一部を画定し前記外カップ体が上昇した際に前記外カップ体の上端と接触する仕切板が設けられ、
前記仕切板に付着した液体は、前記外カップ体と前記上カップ体の前記下部分との間の隙間を通過する、基板処理装置。
IPC (1件):
FI (4件):
H01L 21/304 643 A
, H01L 21/304 651 B
, H01L 21/304 648 L
, H01L 21/304 648 K
引用特許:
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