特許
J-GLOBAL ID:202003019675177593
撮像装置、画像処理装置、撮像装置の制御方法およびプログラム
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (6件):
大塚 康徳
, 大塚 康弘
, 高柳 司郎
, 木村 秀二
, 下山 治
, 永川 行光
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-152436
公開番号(公開出願番号):特開2020-028045
出願日: 2018年08月13日
公開日(公表日): 2020年02月20日
要約:
【課題】撮像装置において、EC素子を用いた光学部材の透過率の分布に起因する画質の低下を抑制する技術を提供する。【解決手段】エレクトロクロミック素子を用いる、光の透過率を電気的に制御可能な光学部材を通過した光で形成される被写体像を撮像する撮像素子を含む撮像装置であって、エレクトロクロミック素子を流れる電流値に基づいて、エレクトロクロミック素子の透過率の分布特性を取得する分布取得手段と、撮像素子で撮像した画像信号を、分布特性に応じて補正する画像処理手段と、をさらに含む。【選択図】図4
請求項(抜粋):
エレクトロクロミック素子を用いる、光の透過率を電気的に制御可能な光学部材を通過した光で形成される被写体像を撮像する撮像素子を含む撮像装置であって、
前記エレクトロクロミック素子を流れる電流値に基づいて、前記エレクトロクロミック素子の透過率の分布特性を取得する分布取得手段と、
前記撮像素子で撮像した画像信号を、前記分布特性に応じて補正する画像処理手段と、をさらに含むことを特徴とする撮像装置。
IPC (6件):
H04N 5/243
, G02F 1/15
, G03B 11/00
, G03B 7/091
, H04N 5/365
, H04N 5/225
FI (8件):
H04N5/243
, G02F1/15 506
, G02F1/15 508
, G03B11/00
, G03B7/091
, H04N5/365 100
, H04N5/225 400
, H04N5/225 100
Fターム (30件):
2H002EB00
, 2H002GA24
, 2H083AA05
, 2H083AA14
, 2H083AA26
, 2H083AA32
, 2H083AA51
, 2K101AA22
, 2K101DA01
, 2K101DB03
, 2K101DB33
, 2K101EC02
, 2K101EG52
, 2K101EJ21
, 2K101EK03
, 5C024CX27
, 5C024EX15
, 5C024EX42
, 5C024EX56
, 5C024HX55
, 5C122EA30
, 5C122FB04
, 5C122FB17
, 5C122FB21
, 5C122FF08
, 5C122FH01
, 5C122FH09
, 5C122HA88
, 5C122HB01
, 5C122HB10
引用特許:
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