特許
J-GLOBAL ID：202003019695742041

基板支持器、プラズマ処理装置、及びフォーカスリング

発明者：
佐々木 康晴

佐々木 康晴 について

, 
内田 陽平

内田 陽平 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (3件)： 長谷川 芳樹 ,  黒木 義樹 ,  柏岡 潤二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-210733
公開番号（公開出願番号）：特開2020-077785
出願日： 2018年11月08日
公開日（公表日）： 2020年05月21日
要約：
【課題】フォーカスリングを保持する静電引力に対抗する力の発生を抑制しつつフォーカスリングに接続する電気的パスを提供可能な基板支持器を提供する。【解決手段】基板支持器は、基板を支持する第1支持領域及びフォーカスリングを支持する第2支持領域を備える。第2支持領域は、周方向に延在している。基板支持器は、導電構造及びホルダーを有する。導電構造は、導電路及び接続部材を含む。導電路は、第2支持領域に対して径方向において外側に端子領域を提供し、端子領域から下方に延びる。接続部材は、フォーカスリングと端子領域とを互いに電気的に接続する。接続部材は、該接続部材に対して径方向において外側で延在するフォーカスリングの面に対面するように端子領域上に配置されている。ホルダーは、接続部材を下方に押圧し、且つ、接続部材にフォーカスリングの面を押圧させるように、接続部材を保持する。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
プラズマ処理装置用の基板支持器であって、 その上に載置される基板を支持するように構成された第1支持領域と、 その上に載置されるフォーカスリングを支持するように構成された第2支持領域であり、前記第1支持領域に対して径方向において外側で周方向に延在する、該第2支持領域と、 前記フォーカスリングに接続するように構成された導電構造であり、 前記第2支持領域に対して前記径方向において外側に端子領域を提供し、該端子領域から下方に延びる導電路と、 前記フォーカスリングと前記端子領域とを互いに電気的に接続する接続部材であり、該接続部材に対して前記径方向において外側で下方に延在する前記フォーカスリングの面に対面するように前記端子領域上に配置された、該接続部材と、 を含む該導電構造と、 前記接続部材を下方に押圧し、且つ、前記接続部材に前記フォーカスリングの前記面を押圧させるように、該接続部材を保持するホルダーと、 を備える基板支持器。
IPC (5件)：
H01L 21/683 ,  H01L 21/306 ,  H05H 1/46 ,  C23C 16/505 ,  C23C 16/458
FI (6件)：
H01L21/68 N ,  H01L21/68 R ,  H01L21/302 101G ,  H05H1/46 M ,  C23C16/505 ,  C23C16/458
Fターム (51件)：
2G084BB23 ,  2G084CC04 ,  2G084CC05 ,  2G084CC12 ,  2G084CC13 ,  2G084CC14 ,  2G084CC33 ,  2G084DD02 ,  2G084DD15 ,  2G084DD24 ,  2G084DD37 ,  2G084DD38 ,  2G084DD55 ,  2G084FF04 ,  2G084FF06 ,  2G084FF15 ,  2G084FF38 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030FA03 ,  4K030GA02 ,  4K030KA20 ,  4K030KA45 ,  4K030LA15 ,  5F004AA16 ,  5F004BA09 ,  5F004BB13 ,  5F004BB18 ,  5F004BB22 ,  5F004BB23 ,  5F004BB25 ,  5F004BB28 ,  5F004BB29 ,  5F004CA04 ,  5F004CA06 ,  5F131AA02 ,  5F131BA03 ,  5F131BA04 ,  5F131BA19 ,  5F131CA04 ,  5F131CA68 ,  5F131EA03 ,  5F131EB11 ,  5F131EB14 ,  5F131EB16 ,  5F131EB17 ,  5F131EB24 ,  5F131EB78 ,  5F131EB82 ,  5F131EB84 ,  5F131HA22
引用特許：
審査官引用 (5件)
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