特許
J-GLOBAL ID：202003019959757441
放射源およびリソグラフィのための方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
, 江口 昭彦
, 内藤 和彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-157330
公開番号（公開出願番号）：特開2018-194860
特許番号：特許第6687691号
出願日： 2018年08月24日
公開日（公表日）： 2018年12月06日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 使用中、励起ビームがプラズマ形成位置で燃料に入射して一次デブリの放出をもたらすように前記励起ビームを受ける放射源であって、前記放射源は、
デブリ受取面であって、使用中、前記一次デブリの放出が前記デブリ受取面の汚染を引き起こすように位置決めおよび/または方向付けされる、デブリ受取面と、
光学的役割を示す光学活性面を有するコンポーネントとを備え、
前記デブリ受取面およびコンポーネントは、前記デブリ受取面に垂直な実質的に全ての線が前記コンポーネントの前記光学活性面と交差しないように位置決めおよび/または方向付けされ、
前記放射源は、前記燃料が前記プラズマ形成位置に移動する間に前記燃料を保護するためのシュラウドを含み、
前記デブリ受取面は、前記シュラウドの表面の少なくとも一部を含む、
放射源。
IPC (2件)：
G03F 7/20 ( 200 6.01)
, H05G 2/00 ( 200 6.01)
G03F 7/20 503
, G03F 7/20 521
, H05G 2/00 K
