特許
J-GLOBAL ID:202003020084580109
圧延ストックの冷間圧延中の圧延ストックの洗浄
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
阿部 達彦
, 実広 信哉
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2019-572081
公開番号(公開出願番号):特表2020-525297
出願日: 2018年06月12日
公開日(公表日): 2020年08月27日
要約:
本発明は、複数のミルスタンド(7、9)を備えるタンデムミル(1)内での圧延ストック(5)の冷間圧延中に圧延ストック(5)を洗浄するための方法に関連する。圧延ストック(5)が移動方向(3)においてタンデムミル(1)を通るように移動させられ、洗浄液(26)が、移動方向(3)の方向とは反対の成分を含む噴射方向において2つの圧延スタンド(7、9)の間で圧延ストック(5)に対して噴射される。
請求項(抜粋):
複数のミルスタンド(7、9)を有するタンデムミル(1)内で被加工物(5)の冷間圧延中に前記被加工物(5)を洗浄するための方法であって、
- 前記被加工物(5)が一つの圧延方向(3)において前記タンデムミル(1)を通るように移動させられ、
- 2つのミルスタンド(7、9)の間において、洗浄液(26)が、前記圧延方向(3)に対して反対である成分を含む噴射方向において前記被加工物(5)に対して噴射される、
方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (3件):
4E002AD05
, 4E002BA01
, 4E002BD10
引用特許:
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