特許

J-GLOBAL ID：202003020182441338

再使用可能なサセプタを備える誘導加熱式エアロゾル発生装置

発明者： リーヴェル トニー
出願人/特許権者： フィリップ・モーリス・プロダクツ・ソシエテ・アノニム
代理人 (9件)： 田中 伸一郎 ,  ▲吉▼田 和彦 ,  須田 洋之 ,  大塚 文昭 ,  西島 孝喜 ,  上杉 浩 ,  近藤 直樹 ,  那須 威夫 ,  鈴木 信彦
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-563681
公開番号（公開出願番号）：特表2020-505077
出願日： 2018年02月06日
公開日（公表日）： 2020年02月20日
要約：

本発明は、エアロゾル形成基体(30)を誘導加熱することによってエアロゾルを発生させるためのエアロゾル発生装置(1)に関する。装置は、加熱されるエアロゾル形成基体を受けるための加熱チャンバー(16)を含む装置ハウジング(10)と、加熱チャンバー内に交流電磁場を発生させるための誘導源とを備える。装置は、基体を加熱するためにエアロゾル形成基体と取り外し可能な接触をするように構成された再使用可能なサセプタ(20)をさらに備える。サセプタは、加熱チャンバー(16)内に配置されているサセプタによって画定された動作位置と、少なくとも部分的に加熱チャンバーの外側に配置されているサセプタによって画定された準備位置との間で変位可能である。本発明は、発明によるエアロゾル発生装置と、加熱されるエアロゾル形成基体を含むエアロゾル発生物品とを備えるエアロゾル発生システムにさらに関する。【選択図】図14

請求項（抜粋）：

エアロゾル形成基体を誘導加熱することによってエアロゾルを発生させるためのエアロゾル発生装置であって、前記装置が、 加熱されるエアロゾル形成基体を受けるための加熱チャンバーを備える装置ハウジングと、 前記加熱チャンバー内で交流電磁場を発生させるための前記装置ハウジング内の誘導源と、 前記基体を加熱するために前記エアロゾル形成基体と取り外し可能な接触をするように構成された再使用可能なサセプタとを備え、前記サセプタが、前記加熱チャンバー内に配置されている前記サセプタによって画定された動作位置と、少なくとも部分的に前記加熱チャンバーの外側に配置されている前記サセプタによって画定された準備位置との間で変位可能である、エアロゾル発生装置。

IPC (1件)：

A24F 47/00

FI (1件)：

A24F47/00

Fターム (7件)：

4B162AA02 ,  4B162AA03 ,  4B162AA05 ,  4B162AA22 ,  4B162AC02 ,  4B162AC06 ,  4B162AC22