溶剤組成物、洗浄方法、塗膜形成用組成物および塗膜の製造方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：伊東秀明 , 竹本洋一 , 蜂谷浩久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-170806
公開番号（公開出願番号）：特開2020-041090
出願日： 2018年09月12日
公開日（公表日）： 2020年03月19日
要約：

【課題】樹脂に対するダメージを低減できる溶剤組成物、洗浄方法、塗膜形成用組成物および塗膜の製造方法の提供。【解決手段】本発明の溶剤組成物は、1,3-ジクロロ-2,3,3-トリフルオロプロペンと、炭素数6以上の飽和炭化水素およびCxHyFzOvNwで表される化合物からなる群から選択される少なくとも1種とを含む。xは3以上の整数であり、yは0以上の整数であり、zは1以上の整数であり、vおよびwはいずれも0以上の整数を表す。ただし、y≦z、および、2x-2≦y+z≦2x+3を満たし、分子内にN-H結合、C=N結合、C≡N結合、O-H結合、C=O結合、-CHF2で表される基、および、環構造を含まない。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

1,3-ジクロロ-2,3,3-トリフルオロプロペンと、炭素数6以上の飽和炭化水素および式(1)で表される化合物からなる群から選択される少なくとも1種とを含むことを特徴とする、溶剤組成物。 CxHyFzOvNw (1) 式(1)中、xは3以上の整数であり、yは0以上の整数であり、zは1以上の整数であり、vおよびwはいずれも0以上の整数を表す。ただし、y≦z、および、2x-2≦y+z≦2x+3を満たし、分子内にN-H結合、C=N結合、C≡N結合、O-H結合、C=O結合、-CHF2で表される基、および、環構造を含まない。

IPC (4件)：

C11D 7/50 , C09D 201/00 , C09D 7/20 , C11D 7/30

FI (4件)：

C11D7/50 , C09D201/00 , C09D7/20 , C11D7/30

Fターム (31件)：

4H003BA12 , 4H003DA01 , 4H003DA05 , 4H003DA14 , 4H003DA15 , 4H003DB02 , 4H003DB03 , 4H003EB02 , 4H003ED26 , 4H003FA03 , 4H003FA45 , 4H003FA46 , 4J038JA02 , 4J038JA11 , 4J038KA06 , 4J038NA05 , 4J038NA07 , 4J038PC08 , 4K053QA04 , 4K053QA05 , 4K053QA06 , 4K053RA32 , 4K053RA38 , 4K053RA41 , 4K053RA52 , 4K053SA03 , 4K053SA04 , 4K053SA06 , 4K053SA08 , 4K053SA18 , 4K053ZA10

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