特許
J-GLOBAL ID:202003020671948593
含リンポリアニリンおよびその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (5件):
山本 秀策
, 森下 夏樹
, 飯田 貴敏
, 石川 大輔
, 山本 健策
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-021092
公開番号(公開出願番号):特開2017-137457
特許番号:特許第6730658号
出願日: 2016年02月05日
公開日(公表日): 2017年08月10日
請求項(抜粋):
【請求項1】 含リンポリアニリンを製造する方法であって、
下記一般式(2):
-(A2)k- (2)
で表されるポリアニリン化合物に、ホスホン化反応を行って含リンポリアニリンを得る工程
を包含し、ここで、
A2は置換もしくは非置換アニリンモノマー残基であって、
各A2は各々独立してn個の置換基Rを有し、
Rは、各々独立してハロゲン原子、炭素原子数1〜15のアルキル基、炭素原子数7〜34のアラルキル基、炭素原子数1〜15のアルコキシ基、炭素原子数1〜15のアルキルチオ基、炭素原子数1〜15のアルキルアミノ基、カルボキシル基、エステル残基の炭素原子数が1〜15のカルボン酸エステル基、ニトロ基およびシアノ基からなる群から選ばれた少なくとも1つであり、
nは各々独立して0〜3の整数であり、
kは4〜3000の整数である、
方法。
IPC (4件):
C08G 73/00 ( 200 6.01)
, C07F 9/40 ( 200 6.01)
, C09K 3/16 ( 200 6.01)
, H01M 4/60 ( 200 6.01)
FI (5件):
C08G 73/00
, C07F 9/40 E
, C09K 3/16 107 C
, C09K 3/16 106 A
, H01M 4/60
引用特許: