特許
J-GLOBAL ID：202003020981454906
柔軟なウエハ温度制御を伴う静電チャック
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人明成国際特許事務所
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-552260
公開番号（公開出願番号）：特表2020-512692
出願日： 2018年03月28日
公開日（公表日）： 2020年04月23日
要約：
【解決手段】基板を処理するための装置が提供されている。第1の冷媒ガス圧システム、第2の冷媒ガス圧システム、第3の冷媒ガス圧システム、および第4の冷媒ガスシステムは、独立したガス圧を提供するために提供される。静電チャックは、中心点および半径範囲を含むチャック表面を有し、中心点から第1の半径より遠い第1の複数の冷媒ガスポートと、中心点から第1の半径と中心点から第2の半径との間に離間した第2の複数の冷媒ガスポートと、中心点から第2の半径と中心点から第3の半径の間に離間した第3の複数の冷媒ガスポートと、中心点から第3の半径内に離間した第4の複数の冷媒ガスポートとを備える。外側密閉バンドは、チャック表面の周りに延びる。【選択図】図9
請求項（抜粋）：
プラズマ処理チャンバにおいて基板を処理するための装置であって、
第1の冷媒ガスを第1の圧力で提供するように構成された第1の冷媒ガス圧システムと、
前記第1の冷媒ガス圧システムから独立して、第2の冷媒ガスを第2の圧力で提供するように構成された第2の冷媒ガス圧システムと、
前記第1の冷媒ガス圧システムおよび前記第2の冷媒ガス圧システムから独立して、第3の冷媒ガスを第3の圧力で提供するように構成された第3の冷媒ガス圧システムと、
前記第1の冷媒ガス圧システム、前記第2の冷媒ガス圧システム、および前記第3の冷媒ガス圧システムから独立して、第4の冷媒ガスを第4の圧力で提供するように構成された第4の冷媒ガス圧システムと、
中心点および外周を有するチャック表面を含む静電チャックであって、さらに、
前記第1の冷媒ガス圧システムに接続された第1の複数の冷媒ガスポートであって、前記第1の複数の冷媒ガスポートの各冷媒ガスポートは、前記中心点から第1の半径より遠くに位置する、第1の複数の冷媒ガスポートと、
前記第2の冷媒ガス圧システムに接続された第2の複数の冷媒ガスポートであって、前記第2の複数の冷媒ガスポートの各冷媒ガスポートは、前記中心点から前記第1の半径と前記中心点から第2の半径との間に離間して配置され、前記第2の半径は、前記第1の半径より短い、第2の複数の冷媒ガスポートと、
前記第3の冷媒ガス圧システムに接続された第3の複数の冷媒ガスポートであって、前記第3の複数の冷媒ガスポートの各冷媒ガスポートは、前記中心点から前記第2の半径と前記中心点から第3の半径との間に離間して配置され、前記第3の半径は、前記第2の半径より短い、第3の複数の冷媒ガスポートと、
前記第4の冷媒ガス圧システムに接続された第4の複数の冷媒ガスポートであって、前記第4の複数の冷媒ガスポートの各冷媒ガスポートは、前記中心点から前記第3の半径以内の距離に離間して配置されている、第4の複数の冷媒ガスポートと、
前記チャック表面の前記外周の周りに延びる外側密閉バンドであって、前記第1の複数の冷媒ガスポート、前記第2の複数の冷媒ガスポート、前記第3の複数の冷媒ガスポート、および前記第4の複数の冷媒ガスポートは、前記外側密閉バンドの内側に位置する、外側密閉バンドと、を備える、静電チャックと、
を備える、装置。
IPC (4件)：
H01L 21/683
, H01L 21/306
, H01L 21/205
, H02N 13/00
H01L21/68 R
, H01L21/302 101G
, H01L21/302 101R
, H01L21/205
, H02N13/00 D
5F004BB22
, 5F004BB25
, 5F004CA04
, 5F045AA08
, 5F045DP03
, 5F045EJ03
, 5F045EJ10
, 5F045EM05
, 5F131AA02
, 5F131BA03
, 5F131BA04
, 5F131BA19
, 5F131CA02
, 5F131EA03
, 5F131EB11
, 5F131EB54
, 5F131EB72
, 5F131EB84
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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