研究者
J-GLOBAL ID:202101007931323820   更新日: 2024年04月17日

畑山 祥吾

ハタヤマ ショウゴ | Hatayama Shogo
所属機関・部署:
職名: 研究員
研究分野 (1件): 無機材料、物性
研究キーワード (4件): アモルファス ,  不揮発性メモリ ,  カルコゲナイド ,  相変化材料
競争的資金等の研究課題 (5件):
  • 2022 - 2025 低環境負荷と高耐熱性を兼ね備えたセレクタデバイスの創製
  • 2022 - 2024 バンドエンジニアリングによる高機能性結晶酸化物型セレクタ材料の実現
  • 2021 - 2023 相変化材料と酸化物の積層MIS接合を用いた大容量・低消費電力不揮発性メモリの実現
  • 2022 - 2023 次世代選択素子の実現に向けた遷移金属含有アモルファスカルコゲナイド材料の創製
  • 2017 - 2020 Cr-Ge-Te系層状物質の高速相変化機構の解明及び不揮発性メモリへの応用
論文 (42件):
  • Shogo Hatayama, Kotaro Makino, Yuta Saito. Phase-change behavior of RuSbTe thin film for photonic applications with amplitude-only modulation. Scientific Reports. 2024
  • Kentaro Saito, Shogo Hatayama, Yuta Saito. Modified Electronic Structure of Amorphous Mn-Si-Te for Ovonic Threshold Switch Application: Improved Thermal Stability by the Formation of Mn-Te Bonding. physica status solidi (RRL) - Rapid Research Letters. 2024
  • Naoya Okada, Wen Hsin Chang, Shogo Hatayama, Yuta Saito, Toshifumi Irisawa. Electrical properties and band alignments of Sb2Te3/Si heterojunctions, low-barrier Sb2Te3/n-Si and high-barrier Sb2Te3/p-Si junctions. Applied Physics Express. 2024
  • Shogo Hatayama, Shunsuke Mori, Yuta Saito, Paul J. Fons, Yi Shuang, Yuji Sutou. Nonvolatile Isomorphic Valence Transition in SmTe Films. ACS Nano. 2024. 18. 4. 2972-2981
  • Shogo Hatayama, Yuta Saito, Paul Fons, Yi Shuang, Mihyeon Kim, Yuji Sutou. Origins of midgap states in Te-based Ovonic threshold switch materials. Acta Materialia. 2023. 258
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MISC (22件):
  • 畑山祥吾, 齊藤雄太, 齊藤雄太, 内田紀行, 内田紀行. Hf-O-Te系アモルファス薄膜の組成制御によるセレクタ機能の発現. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2022. 69th
  • 齊藤雄太, 畑山祥吾, 諸田美砂子. 配向制御したカルコゲナイド相変化材料薄膜. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2022. 69th
  • 須藤祐司, 畑山祥吾, 森竣祐, YI Shunag. 相変化メモリの高性能化:新材料創成からのアプローチ. 半導体・集積回路技術シンポジウム(CD-ROM). 2021. 85th
  • 畑山祥吾, 畑山祥吾, 小林啓介, 小林啓介, 齊藤雄太, FONS Paul, FONS Paul, YI Shuang, 森竣祐, KOLOBOV Alexander V., et al. 遷移金属含有アモルファスカルコゲナイドの低抵抗化機構の解明. 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2021. 82nd
  • 齊藤雄太, 畑山祥吾, 畑山祥吾, YI Shuang, FONS Paul, FONS Paul, KOLOBOV Alexander V., KOLOBOV Alexander V., 須藤祐司. 層状カルコゲナイドにおける化学結合の次元変化を伴う結晶化. 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2021. 82nd
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特許 (2件):
学歴 (1件):
  • 2017 - 2020 東北大学 大学院工学研究科
学位 (1件):
  • 博士(工学) (東北大学)
経歴 (3件):
  • 2023/04 - 現在 国立研究開発法人産業技術総合研究所 研究員
  • 2021/04 - 2023/03 国立研究開発法人産業技術総合研究所 産総研特別研究員
  • 2020/04 - 2021/03 東北大学 大学院工学研究科 博士研究員
受賞 (2件):
  • 第49回 応用物理学会講演奨励賞
  • 第6回シリコン材料・デバイス研究会 若手優秀発表賞
所属学会 (2件):
日本金属学会 ,  応用物理学会
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