研究者
J-GLOBAL ID:202101017946574558   更新日: 2024年10月31日

竹内 雅耶

タケウチ マサヤ | Takeuchi Masaya
所属機関・部署:
職名: 助教
研究分野 (3件): 薄膜、表面界面物性 ,  量子ビーム科学 ,  量子ビーム科学
研究キーワード (5件): 放射光分析 ,  ナノ・マイクロプロセス ,  微細加工 ,  クラスターイオンビーム ,  表面科学
競争的資金等の研究課題 (5件):
  • 2023 - 2026 ジケトン分子吸着過程およびガスクラスターイオンビーム照射による表面反応過程の解明
  • 2022 - 2025 クラスタービーム原子層エッチングと照射位置制御を用いた超高精度形状創成
  • 2022 - 2023 溶液の高感度XPS測定用窓材料のガスクラスターイオンビームによる原子層エッチング
  • 2022 - 2023 ガスクラスターイオンビームによるXPS溶液測定用セルの光電子検出窓の高性能化
  • 2022 - 2023 ガスクラスターイオンビームを用いた極薄SiN膜の耐圧性向上の検討
論文 (20件):
  • Masaya Takeuchi, Satoru Suzuki, Masaki Nakamura, Takashi Hata, Yusuke Nishiuchi, Kaori Tada, Noriaki Toyoda. Highly sensitive electron-beam-induced X-ray detection from liquid using SiNx membrane ultra-thinned by gas cluster ion beams. Japanese Journal of Applied Physics. 2024. 63. 7. 07SP04-07SP04
  • Masaya Takeuchi, Noriaki Toyoda. Pressure resistance evaluation of an ultrathin SiNx membrane etched by a gas cluster ion beam. Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms. 2024. 550. 165317-165317
  • Masaya Takeuchi, Reki Fujiwara, Noriaki Toyoda. Atomic layer etching of silicon nitride film by oxygen gas cluster ion beam with acetylacetone. Japanese Journal of Applied Physics. 2023. 62. SG. SG1051-SG1051
  • Hanahara, S., Takeuchi, M., Toyoda, N. Surface preparation of metal films by gas cluster ion beams using organic acid vapor for Cu-Cu bonding. Japanese Journal of Applied Physics. 2022. 61. SF. SF1004-SF1004
  • Kohzo Tamada, Sho Amano, Kana Okamoto, Masaya Takeuchi, Akinobu Yamaguchi, Yuichi Utsumi, Tohru Yamasaki. Fabrication of Ni-W microgears using LIGA process. Sensors and Materials. 2021. 33. 12. 4455-4460
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講演・口頭発表等 (27件):
  • High Sensitivity of Energy Dispersive X-Ray Spectroscopy Measurement Using Liquid Cell with Electron Transmittance Window Ultra-Thinned by a Gas Cluster Ion Beam
    (Prime2024 2024)
  • Investigation of modification process of SiNx film by a gas cluster ion beam irradiation
    (24th International Conference on Ion Implantation Technology 2024 2024)
  • X-ray PEEM測定用液体セルに向けたGCIB照射による極 薄SiNxメンブレンの応力制御
    (第85回応用物理学会秋季学術講演会 2024)
  • 液体、気体、生物試料の真空中分析
    (第84回分析化学討論会)
  • GCIB照射で極薄化した電子線透過窓を用いた液体セルによるSEM/EDS検出の高感度化
    (第71回応用物理学会春季学術講演会 2024)
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学歴 (3件):
  • 2017 - 2020 兵庫県立大学 大学院工学研究科 材料・放射光工学専攻 博士後期課程
  • 2015 - 2017 兵庫県立大学 大学院工学研究科 材料・放射光工学専攻 博士前期課程
  • 2011 - 2015 兵庫県立大学 工学部 電子情報電気工学科
学位 (1件):
  • 博士(工学) (兵庫県立大学)
経歴 (4件):
  • 2021/06 - 現在 東京大学 物性研究所 嘱託研究員
  • 2021/04 - 現在 兵庫県立大学 大学院 工学研究科 電子情報工学専攻 助教
  • 2020/07 - 2021/03 東京大学 物性研究所 極限コヒーレント光科学研究センター(辛研究室) 特任研究員
  • 2020/04 - 2020/07 兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 非常勤研究員
委員歴 (4件):
  • 2024/04 - 現在 応用物理学会 応用物理学会 関西支部
  • 2023/04 - 現在 電気学会 量子ビームによる機能性ミクロ構造創生とバイオメディカルシステム応用技術調査専門委員会
  • 2022/04 - 2024/03 電子情報通信学会 関西支部運営委員
  • 2021/04 - 2023/03 電気学会 量子ビームによるナノ構造・界面形成とバイオメディカル応用技術調査専門委員会
受賞 (5件):
  • 2024/02 - 電気学会 電子情報・システム部門 光・量子デバイス研究会 技術委員奨励賞 GCIBエッチングを用いたSiNx膜の極薄化と液体セル電子透過窓への適用
  • 2022/05 - 応用物理学会 第52回(2022年春季)応用物理学会講演奨励賞 GCIBを用いた原子層エッチングによるSi3N4膜の極薄化及びその耐圧性評価
  • 2018/07 - The 9th Japan-China-Korea Joint Conference on MEMS/NEMS Best Presentation Award Characteristics of new deep X-ray lithography beamline (BL11) at NewSUBARU
  • 2018/03 - 兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 先端技術セミナー 2018 学生ポスター賞 汎用ディープX線リソグラフィービームライン(BL11)を用いた大面積均一加工の検討
  • 2016/10 - 応用物理学会 第8回集積化MEMSシンポジウム (口頭発表) 研究奨励賞 免疫測定のための高精度単位化学操作を実現するLab-on-a-CDの提案
所属学会 (3件):
応用物理学会 ,  電気学会 ,  電子情報通信学会
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