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J-GLOBAL ID：202102214973583132   整理番号：21A3167510

フィルムシステム最適化設計による多層誘電体高反射コーティングの光散乱の低減【JST・京大機械翻訳】

Reducing light scattering of multilayer dielectric high-reflection coatings through film system optimization design

著者 (4件)： Pan Yongqiang (School of Optoelectronic Engineering, Xi’an Technological University, Xi’an 710021, China) ,  Yang Weirong (School of Optoelectronic Engineering, Xi’an Technological University, Xi’an 710021, China) ,  Tian Ailing (School of Optoelectronic Engineering, Xi’an Technological University, Xi’an 710021, China) ,  Gong Lei (School of Optoelectronic Engineering, Xi’an Technological University, Xi’an 710021, China)
資料名： Optics & Laser Technology  (Optics & Laser Technology)
巻： 145  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： D0245B  ISSN： 0030-3992  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 界面粗さに起因する高反射(HR)被覆の光散乱は,それらの実用化の重要因子である。コーティングのスペクトル反射率を変えずに界面電場強度分布を最適化することにより,高反射被覆の散乱損失を低減する新しい最適設計法を提案した。異なる構造の3種類の高反射被覆,すなわち,標準スタック高反射被覆,付加的高屈折率トップ層高反射被覆を有する標準積層,および改質トップ層高反射被覆を有する標準スタックを得た。3種類の高反射被膜の電場強度の分布を解析し,3種類の高反射被覆の角度分解散乱(ARS)を完全非相関界面粗さモデルの下でシミュレートした。理論的シミュレーションと実験結果は,高反射被膜の散乱損失が,電場強度の分布を減らすために,高反射被覆の設計を最適化することによって効果的に減少できることを示した。Copyright 2021 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 界面 ,  *最適化 ,  *散乱 ,  シミュレーション ,  反射率 ,  *光散乱 ,  *誘電体 ,  システム設計 ,  *最適設計 ,  *被覆 ,  スペクトル ,  皮膜 ,  多層 ,  電界強度
準シソーラス用語： 高屈折率 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 光散乱 ,  多層高反射コーティング ,  角度分解散乱(ARS) ,  全散乱(TS) ,  フィルムシステム設計

分類 (5件)： 光デバイス一般  (BD06010L) ,  半導体レーザ  (BD04070L) ,  レーザの応用  (BD04100V) ,  高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  光の散乱,回折,干渉  (BD03030M)

タイトルに関連する用語 (7件)： フィルム ,  システム最適化 ,  設計 ,  多層 ,  誘電体 ,  コーティング ,  光散乱