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J-GLOBAL ID：202102217268784239   整理番号：21A3201337

太陽光下で改善された光触媒活性のための純粋及び銀系WO_3の合成に及ぼすHCl及びHNO_3の影響【JST・京大機械翻訳】

Effect of HCl and HNO₃ on the synthesis of pure and silver-based WO₃ for improved photocatalytic activity under sunlight

著者 (6件)： Hasse Palharim Priscila (Research Group in Advanced Oxidation Processes (AdOx), Department of Chemical Engineering, Escola Politecnica, University of Sao Paulo, Av. Prof. Luciano Gualberto tr. 3, 380. Sao Paulo, SP, Brazil) ,  Lara Diego dos Reis Fusari Beatriz (Research Group in Advanced Oxidation Processes (AdOx), Department of Chemical Engineering, Escola Politecnica, University of Sao Paulo, Av. Prof. Luciano Gualberto tr. 3, 380. Sao Paulo, SP, Brazil) ,  Ramos Bruno (Research Group in Advanced Oxidation Processes (AdOx), Department of Chemical Engineering, Escola Politecnica, University of Sao Paulo, Av. Prof. Luciano Gualberto tr. 3, 380. Sao Paulo, SP, Brazil) ,  Ramos Bruno (Laboratory for Ceramics Processing, Department of Metallurgical and Materials Engineering, Escola Politecnica, University of Sao Paulo, Av. Prof. Mello Moraes, 2463. Sao Paulo, SP, Brazil) ,  Otubo Larissa (Instituto de Pesquisas Energeticas e Nucleares (IPEN/CNEN), Cidade Universitaria, Av. Prof. Lineu Prestes, 2242. Sao Paulo, SP, Brazil) ,  Silva Costa Teixeira Antonio Carlos (Research Group in Advanced Oxidation Processes (AdOx), Department of Chemical Engineering, Escola Politecnica, University of Sao Paulo, Av. Prof. Luciano Gualberto tr. 3, 380. Sao Paulo, SP, Brazil)
資料名： Journal of Photochemistry and Photobiology. A. Chemistry  (Journal of Photochemistry and Photobiology. A. Chemistry)
巻： 422  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： D0721B  ISSN： 1010-6030  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 不均一系光触媒は,重要で効率的な代替水と廃水処理プロセスと考えられている。この領域では,三酸化タングステンのような異なる半導体が,光触媒性能の向上を目指して研究されている。WO_3は酸性条件で高い安定性を有する効率的な材料として知られている。本研究では,純粋およびAg/AgClドープWO_3光触媒を簡単な水熱法により合成した。触媒の最終特性における2つのpH制御剤,HClとHNO_3の影響の議論を初めて報告した。材料をXRD,BET,SEM,EDSおよびUV-visDRSによって特性評価した。全ての触媒は,標準光触媒ベンチマーク(TiO_2 P25)と比較して,類似のまたは増強されたバンドギャップ値を示した。酸のタイプは,未ドープ触媒のモルフォロジーまたは光触媒活性に大きな違いをもたらさなかった。対照的に,HClを用いて調製したドープ触媒は花様形態の粒子をもたらし,より高い均一性とわずかに狭いバンドギャップ値を有した。さらに,銀ドープWO_3の合成におけるHClの使用はAgClを含む触媒をもたらしたが,HNO_3を用いるとAg0が主要なドーパント種であった。全ての材料は良好な光触媒活性を示し,HClで調製した触媒により達成された模擬太陽光下で最大75.4%のアセトアミノフェン分解を示し,5%Ag当量でドープした。この触媒に対して,分解速度はLangmuir-Hinshelwood(L-H)モデルと一致し,再使用性試験は4サイクル後の分解効率の著しい低下を示さなかった。最後に,異なるスカベンジャーの効果は,O_2・- -種がWO_3,AgおよびAgClを含む材料によるアセトアミノフェン分解において主要な役割を果たすことを示唆する。Copyright 2021 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 水熱合成 ,  半導体 ,  廃水処理 ,  *触媒活性 ,  *塩酸 ,  ドーピング ,  *太陽光 ,  ドーパント ,  *光触媒 ,  スカベンジャー ,  ベンチマーク ,  バンドギャップ ,  モルフォロジー ,  脂肪酸 ,  芳香族アミン ,  フェノール類 ,  カルボアミド ,  アミノアルコール
準シソーラス用語： *光触媒活性 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： WO_3光触媒 ,  ドープしたWO_3光触媒 ,  模擬太陽光 ,  水熱合成 ,  光劣化

分類 (2件)： 光化学反応  (CB08020F) ,  分解反応  (CF02080P)

物質索引 (1件)： アセトアミノフェン

タイトルに関連する用語 (4件)： 太陽光 ,  光触媒活性 ,  銀 ,  HCl