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J-GLOBAL ID：202102218759859488   整理番号：21A0150047

電圧コントラスト検査による金属トレンチ臨界寸法とオーバレイマイナー変動モニタリング法【JST・京大機械翻訳】

Metal Trench Critical Dimension and Overlay Minor Variation Monitoring Method with Voltage Contrast Inspection

著者 (5件)： Huang Lijing (Shanghai Huali Microelectronics Corporation,Shanghai,China) ,  Ni Qiliang (Shanghai Huali Microelectronics Corporation,Shanghai,China) ,  Gu Xiaofang (Shanghai Huali Microelectronics Corporation,Shanghai,China) ,  Han Chao (Shanghai Huali Microelectronics Corporation,Shanghai,China) ,  Yuan Jiansi (Shanghai Huali Microelectronics Corporation,Shanghai,China)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2020  号： CSTIC  ページ： 1-3  発行年： 2020年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 調査は,電圧コントラスト(VC)検査による金属トレンチ臨界寸法(CD)とオーバレイ変動モニタリング方法論を目的とする。負帯電モードによるVC検査を行い,NDC膜堆積層,第二金属層化学および機械的研磨で,金属溝CDおよびオーバレイ変化問題を検出した。Dark VC(DVC)欠陥は,極端なウエハエッジで見出され,それは,データ保持ソフトビン故障によって,ライン(EOL)降伏損失を引き起こす。DVC欠陥は,高電圧とPFA分析結果によるインラインSEMレビュー結果によって同定された。欠陥が金属トレンチCDとオーバレイ変化によって誘起されることを実証した。さらに,薄膜堆積と化学的および機械的研磨(CMP)の均一性,1つのエッチングプロセスにおける全てのエッチング速度性能,およびリソグラフィーのe-chuck蓄積汚染を含む欠陥衝撃因子も調べた。相対的プロセスツールのオフラインモニタ周波数を増加させて,リソグラフィーツールの防止保全方法を最適化することによって,欠陥を固定して,傾向は低かった。本研究では,CDとオーバレイのマイナーな変動を検出するためにVC検査の使用を拡張した。Copyright 2021 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *コントラスト ,  最適化 ,  衝撃 ,  *電圧 ,  薄膜 ,  故障 ,  保全 ,  降伏 ,  マイナ ,  リソグラフィー ,  負電荷
準シソーラス用語： エッチング速度 ,  データリテンション ,  堆積層 ,  トレンチ , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 図形・画像処理一般  (JE04010I)

タイトルに関連する用語 (7件)： コントラスト ,  検査 ,  トレンチ ,  臨界寸法 ,  オーバレイ ,  マイナー ,  モニタリング法