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J-GLOBAL ID：202102221600131718   整理番号：21A0147869

窒素イオン注入による埋め込み超伝導Mo_2Nの形成【JST・京大機械翻訳】

Formation of buried superconducting Mo₂N by nitrogen-ion-implantation

著者 (8件)： Lee Joonhyuk (Department of Physics, Pusan National University, Busan 46241, Korea. [e-mail]) ,  Park Jun Kue ,  Lee Joon Woo ,  Heo Yunseok ,  Oh Yoon Seok ,  Lee Jae S. ,  Cho Jinhyung ,  Jeen Hyoungjeen
資料名： RSC Advances (Web)  (RSC Advances (Web))
巻： 10  号： 72  ページ： 44339-44343  発行年： 2020年 
JST資料番号： U7055A  ISSN： 2046-2069  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 窒素イオン注入は窒素イオンを格子に置く有用な技術である。本研究では,エピタキシャルMo膜への窒素イオン注入を行い,埋込み超伝導γ-Mo_2Nを作製した。原子的に平坦なエピタキシャル(110)Mo膜を(0001)Al_2O_3上に成長させた。ビームエネルギーが20keVに固定される衝突窒素イオンによって,(111)γ-Mo_2N回折とX線反射率からのγ-Mo_2N層の形成を観測した。磁化と輸送測定は,注入された膜の超伝導層を明確に支持する。著者らの戦略は,埋込み超伝導層の形成がイオン注入と自己アニーリングによって達成できることを示した。Copyright 2021 Royal Society of Chemistry All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： エピタクシー ,  回折 ,  磁化 ,  焼なまし ,  *超伝導 ,  *窒素 ,  *イオン注入
準シソーラス用語： X線反射率 ,  *窒素イオン , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (4件)： 窒素イオン ,  注入 ,  埋め込み ,  超伝導