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J-GLOBAL ID：202102222529347906   整理番号：21A0030010

直接レーザ書込みに基づく三次元トポグラフィー上の超伝導トンネル接合作製【JST・京大機械翻訳】

Superconducting tunnel junction fabrication on three-dimensional topography based on direct laser writing

著者 (2件)： Heiskanen Samuli (Nanoscience Center, Department of Physics, University of Jyvaskyla, P. O. Box 35, FIN-40014 Jyvaeskylae, Finland) ,  Maasilta Ilari J. (Nanoscience Center, Department of Physics, University of Jyvaskyla, P. O. Box 35, FIN-40014 Jyvaeskylae, Finland)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 117  号： 23  ページ： 232601-232601-6  発行年： 2020年 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 超伝導接合は,量子情報科学と固体冷却へのセンシングから多くの応用で広く使用されている。伝統的に,そのようなデバイスは標準リソグラフィー技術を用いて平坦な基板上に作製されなければならない。本研究では,より複雑なトポグラフィー上に超伝導接合を可能にする非常に汎用性の高い方法を示した。それはマスクレス直接レーザ書き込みと二光子リソグラフィーに基づいており,3D空間で書き込みを可能にする。高品質な通常の金属-絶縁体-超伝導体トンネル接合を,20μmの3次元トポグラフィーの上に作製できることを示した。コンフォーマルレジスト被覆法と組み合わせて,この技術は,将来,ほぼ任意の型のトポグラフィーでサブミクロンデバイス製造を可能にする。Copyright 2021 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 被覆 ,  汎用性 ,  *トンネル接合 ,  リソグラフィー ,  *三次元 ,  超伝導体 ,  超伝導接合 ,  絶縁体
準シソーラス用語： 高品質 ,  三次元空間 ,  *超伝導トンネル接合 ,  *レーザ書込 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (5件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  電子・磁気・光学記録  (NC06020F) ,  格子欠陥の観察・実験技術  (BK12020U) ,  長さ,面積,断面,体積,容積,角度の計測法・機器  (AD05020O) ,  半導体の赤外スペクトル及びRaman散乱・Ramanスペクトル  (BM08066B)

タイトルに関連する用語 (5件)： レーザ ,  書込み ,  トポグラフィー ,  超伝導トンネル接合 ,  作製